CORC

浏览/检索结果: 共22条,第1-10条 帮助

限定条件                
已选(0)清除 条数/页:   排序方式:
A Novel High Volume Manufacturing Method for Defect-free and High-yield SiN Micro-sieve Membranes 期刊论文
Journal of Microelectronic Manufacturing, 2018
作者:  Zhao C(赵超);  Wei YY(韦亚一);  Chen R(陈睿);  Dong LS(董立松);  Liu YS(刘艳松)
收藏  |  浏览/下载:32/0  |  提交时间:2019/05/05
Retargeting of forbidden-dense-alternate structures for lithography capability improvement in advanced nodes 期刊论文
APPLIED OPTICS, 2018
作者:  He JF(何建芳);  Dong LS(董立松);  Ye TC(叶甜春);  Zhao LJ(赵利俊);  Wei YY(韦亚一)
收藏  |  浏览/下载:20/0  |  提交时间:2019/05/05
Pattern quality and defect evaluation based on cross correlation and power spectral density methods 期刊论文
J Vac Sci Technol B, 2018
作者:  Zhang LB(张利斌);  Ma L(马乐);  Chen R(陈睿);  He JF(何建芳);  Su XJ(苏晓菁)
收藏  |  浏览/下载:23/0  |  提交时间:2019/05/05
Fast optical proximity correction method based on nonlinear compressive sensing 期刊论文
Optics Express, 2018
作者:  Xu Ma;  Javier Garcia-Frias;  Lisong Dong;  Gonzalor.Arce;  YanQiu Li
收藏  |  浏览/下载:14/0  |  提交时间:2019/05/05
Development defect model for immersion photolithography 期刊论文
J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS, 2018
作者:  Qing Wu;  Ling Ma;  Lisong Dong;  Qiaoqiao Li;  Yayi Wei
收藏  |  浏览/下载:27/0  |  提交时间:2019/05/05
七级衍射光栅结构及其制备方法、晶圆光刻对准方法 专利
专利号: CN201610140991.2, 申请日期: 2017-10-24, 公开日期: 2016-05-04
作者:  韦亚一;  苏晓菁;  董立松;  张利斌
收藏  |  浏览/下载:9/0  |  提交时间:2018/04/24
五级衍射光栅结构及其制备方法、晶圆光刻对准方法 专利
专利号: CN201610140129.1, 申请日期: 2017-10-24, 公开日期: 2016-05-25
作者:  苏晓菁;  董立松;  张利斌;  韦亚一
收藏  |  浏览/下载:13/0  |  提交时间:2018/04/25
Characteristic study of image-based alignment for increasing accuracy in lithography application 期刊论文
Journal of Vacuum Science & Technology B, 2017
作者:  Zhang LB(张利斌);  Dong LS(董立松);  Su XJ(苏晓菁);  Wei YY(韦亚一)
收藏  |  浏览/下载:15/0  |  提交时间:2018/07/09
光源掩模协同优化的原理与应用 期刊论文
半导体技术, 2017
作者:  韦亚一;  董立松;  何建芳;  陈文辉
收藏  |  浏览/下载:21/0  |  提交时间:2018/06/08
Applications of RCWA on EUV mask optics 会议论文
作者:  Fan TA(范泰安);  Dong LS(董立松);  Wei YY(韦亚一)
收藏  |  浏览/下载:9/0  |  提交时间:2018/07/26


©版权所有 ©2017 CSpace - Powered by CSpace