×
验证码:
换一张
忘记密码?
记住我
CORC
首页
科研机构
检索
知识图谱
申请加入
托管服务
登录
注册
在结果中检索
科研机构
湖南大学 [3]
物理研究所 [1]
内容类型
期刊论文 [4]
发表日期
2019 [3]
2008 [1]
×
知识图谱
CORC
开始提交
已提交作品
待认领作品
已认领作品
未提交全文
收藏管理
QQ客服
官方微博
反馈留言
浏览/检索结果:
共4条,第1-4条
帮助
已选(
0
)
清除
条数/页:
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
70
75
80
85
90
95
100
排序方式:
请选择
发表日期升序
发表日期降序
提交时间升序
提交时间降序
题名升序
题名降序
作者升序
作者降序
Short channel monolayer MoS2 field-effect transistors defined by SiOx nanofins down to 20nm
期刊论文
NANOTECHNOLOGY, 2019, 卷号: Vol.30 No.29
作者:
Bi, KX
;
Liu, HZ
;
Chen, YQ
;
Luo, F
;
Shu, ZW
收藏
  |  
浏览/下载:3/0
  |  
提交时间:2019/12/17
short channel devices
hydrogen silsesquioxane (HSQ) electron resists
large area preparation
Short channel monolayer MoS2 field-effect transistors defined by SiOx nanofins down to 20nm
期刊论文
NANOTECHNOLOGY, 2019, 卷号: Vol.30 No.29
作者:
Bi, KX
;
Liu, HZ
;
Chen, YQ
;
Luo, F
;
Shu, ZW
收藏
  |  
浏览/下载:13/0
  |  
提交时间:2019/12/17
short channel devices
hydrogen silsesquioxane (HSQ) electron resists
large area preparation
Short channel monolayer MoS2 field-effect transistors defined by SiOx nanofins down to 20 nm.
期刊论文
Nanotechnology, 2019
作者:
Kaixi Bi
;
Huaizhi Liu
;
Yiqin Chen
;
Fang Luo
;
Zhiwen Shu
收藏
  |  
浏览/下载:14/0
  |  
提交时间:2019/12/17
hydrogen silsesquioxane (HSQ) electron resists
large area preparation
short chaneel devices
Electron beam lithography of HSQ/PMMA bilayer resists for negative tone lift-off process
期刊论文
MICROELECTRONIC ENGINEERING, 2008, 卷号: 85, 期号: 5-6, 页码: 814
Yang, HF
;
Jin, AZ
;
Luo, Q
;
Li, JJ
;
Gu, CZ
;
Cui, Z
收藏
  |  
浏览/下载:35/0
  |  
提交时间:2013/09/17
HYDROGEN SILSESQUIOXANE
CONTRAST
STACK
©版权所有 ©2017 CSpace - Powered by
CSpace