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半导体研究所 [38]
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期刊论文 [34]
会议论文 [4]
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Growth and annealing of zinc-blende cdse thin films on gaas (001) by molecular beam epitaxy
期刊论文
Applied surface science, 2011, 卷号: 257, 期号: 21, 页码: 9038-9043
作者:
Yang, Qiumin
;
Zhao, Jie
;
Guan, Min
;
Liu, Chao
;
Cui, Lijie
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浏览/下载:23/0
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提交时间:2019/05/12
Cdse
Molecular beam epitaxy
Reflection high energy electron diffraction
X-ray diffraction
Atomic force microscopy
Strained and strain-relaxed epitaxial ge1-xsnx alloys on si(100) substrates
期刊论文
Chinese physics b, 2011, 卷号: 20, 期号: 6, 页码: 5
作者:
Wang Wei
;
Su Shao-Jian
;
Zheng Jun
;
Zhang Guang-Ze
;
Zuo Yu-Hua
收藏
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浏览/下载:112/0
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提交时间:2019/05/12
Gesn alloys
Strained
Strain-relaxed
Molecular beam epitaxy
Optimization of vi/ii pressure ratio in znte growth on gaas(001) by molecular beam epitaxy
期刊论文
Applied surface science, 2010, 卷号: 256, 期号: 22, 页码: 6881-6886
作者:
Zhao, Jie
;
Zeng, Yiping
;
Liu, Chao
;
Cui, Lijie
;
Li, Yanbo
收藏
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浏览/下载:20/0
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提交时间:2019/05/12
Znte
Molecular beam epitaxy
Reflection high-energy electron diffraction
X-ray diffraction
Atomic force microscopy
Substrate temperature dependence of znte epilayers grown on gaas(001) by molecular beam epitaxy
期刊论文
Journal of crystal growth, 2010, 卷号: 312, 期号: 9, 页码: 1491-1495
作者:
Zhao, Jie
;
Zeng, Yiping
;
Liu, Chao
;
Li, Yanbo
收藏
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浏览/下载:14/0
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提交时间:2019/05/12
Reflection high-energy electron diffraction
Atomic force microscopy
Molecular beam epitaxy
Zinc compounds
Semiconducting ii-vi materials
Optimization of VI/II pressure ratio in ZnTe growth on GaAs(001) by molecular beam epitaxy
期刊论文
applied surface science, 2010, 卷号: 256, 期号: 22, 页码: 6881-6886
Zhao J (Zhao Jie)
;
Zeng YP (Zeng Yiping)
;
Liu C (Liu Chao)
;
Cui LJ (Cui Lijie)
;
Li YB (Li Yanbo)
收藏
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浏览/下载:158/17
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提交时间:2010/07/05
ZnTe
Molecular beam epitaxy
Reflection high-energy electron diffraction
X-ray diffraction
Atomic force microscopy
VAPOR-PHASE EPITAXY
N-TYPE ZNTE
MBE GROWTH
100 GAAS
ZNSE
LAYERS
SURFACE
TEMPERATURE
SUBSTRATE
EPILAYERS
Substrate temperature dependence of ZnTe epilayers grown on GaAs(001) by molecular beam epitaxy
期刊论文
journal of crystal growth, 2010, 卷号: 312, 期号: 9, 页码: 1491-1495
Zhao J (Zhao Jie)
;
Zeng YP (Zeng Yiping)
;
Liu C (Liu Chao)
;
Li YB (Li Yanbo)
收藏
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浏览/下载:148/33
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提交时间:2010/06/04
Reflection high-energy electron diffraction
Atomic force microscopy
Molecular beam epitaxy
Zinc compounds
Semiconducting II-VI materials
An experimental study about the influence of well thickness on the electroluminescence of InGaN/GaN multiple quantum wells
期刊论文
journal of alloys and compounds, 2010, 卷号: 489, 期号: 2, 页码: 461-464
作者:
Wang YT
;
Zhao DG
;
Zhang SM
;
Yang H
;
Jiang DS
收藏
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浏览/下载:146/11
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提交时间:2010/04/04
Nitride materials
Crystal growth
X-ray diffraction
TIME-RESOLVED PHOTOLUMINESCENCE
LIGHT-EMITTING-DIODES
PIEZOELECTRIC FIELDS
LASER-DIODES
DEPENDENCE
RECOMBINATION
POLARIZATION
DYNAMICS
GROWTH
MOCVD
An internally-matched gan hemts device with 45.2 w at 8 ghz for x-band application
期刊论文
Solid-state electronics, 2009, 卷号: 53, 期号: 3, 页码: 332-335
作者:
Wang, X. L.
;
Chen, T. S.
;
Xiao, H. L.
;
Tang, J.
;
Ran, J. X.
收藏
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浏览/下载:22/0
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提交时间:2019/05/12
Algan/aln/gan
Hemt
Mocvd
Sic substrate
Power device
An internally-matched GaN HEMTs device with 45.2 W at 8 GHz for X-band application
期刊论文
solid-state electronics, 2009, 卷号: 53, 期号: 3, 页码: 332-335
作者:
Zhang ML
;
Hou QF
收藏
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浏览/下载:129/30
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提交时间:2010/03/08
AlGaN/AlN/GaN
HEMT
MOCVD
SiC substrate
Power device
Promoting strain relaxation of si0.72ge0.28 film on si (100) substrate by inserting a low-temperature ge islands layer in uhvcvd
期刊论文
Applied surface science, 2008, 卷号: 255, 期号: 5, 页码: 2660-2664
作者:
Zhou, Zhiwen
;
Cai, Zhimeng
;
Li, Cheng
;
Lai, Hongkai
;
Chen, Songyan
收藏
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浏览/下载:19/0
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提交时间:2019/05/12
Relaxed buffer
Sige film
Lt-ge layer
Strain relaxation
Uhvcvd
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