QQ客服 官方微博 反馈留言

浏览/检索结果: 共6条，第1-6条 帮助 限定条件 发表日期：2017    内容类型：会议论文     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Compliance Current Effect on Switching Behavior of Hafnium Oxide based RRAM 会议论文 作者:  Qi, Yanfei;  Zhao, Chun;  Fang, Yuxiao;  Lu, Qifeng;  Liu, Chenguang 收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2019/11/26 Investigation of Anomalous Capacitance-Voltage Behavior Caused by Interface Dipoles and the Effect of Post-Metal-Annealing 会议论文 作者:  Lu, Qifeng;  Zhao, Ce Zhou;  Zhao, Chun;  Taylor, Steve;  Chalker, Paul R. 收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2019/11/26 MOS  Zr(NMe2)(4)  Anomalous capacitance-voltage   Atomic Layer Deposition of HfO2 Gate Dielectric with Surface Treatments and Post-metallization Annealing for Germanium MOSFETs 会议论文 作者:  Liu, Qifeng;  Lam, Sang;  Mu, Yifei;  Zhao, Ce Zhou;  Zhao, Yinchao 收藏  |  浏览/下载：13/0  |  提交时间：2019/11/26 Capacitance-voltage characteristics measured through pulse technique on high-k dielectric MOS devices 会议论文 作者:  Lu, Qifeng;  Qi, Yanfei;  Zhao, Ce Zhou;  Zhao, Chun;  Taylor, Stephen 收藏  |  浏览/下载：4/0  |  提交时间：2019/11/26 Capacitance-voltage characteristics  High-k dielectrics  Pulse technique   Influence of HfAlO Composition on Resistance Ratio of RRAM with Ti electrode 会议论文 作者:  Qi, Yanfei;  Fang, Yuxiao;  Zhao, Chun;  Lu, Qifeng;  Liu, Chenguang 收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2019/11/26 Effects of Biased Irradiation on Charge Trapping in HfO2 Dielectric Thin Films 会议论文 作者:  Mu, Yifei;  Zhao, Ce Zhou;  Lu, Qifeng;  Zhao, Chun;  Qi, Yanfei 收藏  |  浏览/下载：4/0  |  提交时间：2019/11/26 HfO2  Thin Films  Charge Trapping