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浏览/检索结果: 共6条，第1-6条 帮助 限定条件 专题：上海光学精密机械研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Analytical analysis of the impact of polarization aberration of projection lens on lithographic imaging 期刊论文 j. micro-nanolithogr. mems moems, 2015, 卷号: 14, 期号: 4, 页码: 43504 作者:  Shen, Lina;  Li, Sikun;  Wang, Xiangzhao;  Yan, Guanyong 收藏  |  浏览/下载：13/0  |  提交时间：2016/11/28 Fast model for mask spectrum simulation and analysis of mask shadowing effects in extreme ultraviolet lithography 期刊论文 j. micro-nanolithogr. mems moems, 2014, 卷号: 13, 期号: 3, 页码: 33007 作者:  Liu, Xiaolei;  Wang, Xiangzhao;  Li, Sikun;  Yan, Guanyong;  Erdmann, Andreas 收藏  |  浏览/下载：17/0  |  提交时间：2016/11/28 extreme ultraviolet lithography  mask model  shadowing effect  pattern shift  critical dimension bias   Fast model for mask spectrum simulation and analysis of mask shadowing effects in extreme ultraviolet lithography 期刊论文 j. micro-nanolithogr. mems moems, 2014, 卷号: 13, 期号: 3, 页码: 33007 作者:  Liu, Xiaolei;  Wang, Xiangzhao;  Li, Sikun;  Yan, Guanyong;  Erdmann, Andreas 收藏  |  浏览/下载：15/0  |  提交时间：2016/11/28 extreme ultraviolet lithography  mask model  shadowing effect  pattern shift  critical dimension bias   金属介电反射光栅的设计 学位论文 博士: 中国科学院上海光学精密机械研究所, 2013 作者:  胡安铎 收藏  |  浏览/下载：64/0  |  提交时间：2016/11/28 反射光栅  简化模式方法  傅里叶模态法  1/4波片  分束器   Design and simulation of double annular illumination mode for micro-lithography 会议论文 5th international symposium on photoelectronic detection and imaging (ispdi) - micro/nano optical imaging technologies and applications 作者:  Song, Qiang;  Zhu, Jing;  Yang, Baoxi;  Liu, Lei;  Wang, Jun 收藏  |  浏览/下载：8/0  |  提交时间：2016/11/28 光纤激光器若干关键技术研究 学位论文 博士: 中国科学院上海光学精密机械研究所, 2003 作者:  夏江珍 收藏  |  浏览/下载：20/0  |  提交时间：2016/11/28 Q开关  光纤光栅  掺饵光纤  光纤激光器