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浏览/检索结果: 共8条，第1-8条 帮助 限定条件 学科主题：半导体材料     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Temperature dependence of the formation of nano-scale indium clusters in InAlGaN alloys on Si(111) substrates 期刊论文 nanotechnology, 2006, 卷号: 17, 期号: 5, 页码: 1251-1254 作者:  Wei HY 收藏  |  浏览/下载：61/0  |  提交时间：2010/04/11 OPTICAL-PROPERTIES  RAMAN-SCATTERING  EPILAYERS  LUMINESCENCE  ALINGAN  PHONON  LAYERS  FILMS  ALN  GAN   Influence of growth pressure of a GaN buffer layer on the properties of MOCVD GaN 期刊论文 science in china series e-technological sciences, 2003, 卷号: 46, 期号: 6, 页码: 620-626 作者:  Zhang SM 收藏  |  浏览/下载：252/65  |  提交时间：2010/08/12 gallium nitride  MOCVD  in situ laser reflectometry  CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION  IN-SITU  SAPPHIRE SUBSTRATE  NUCLEATION LAYERS  FILMS   Nonlinear optical properties and thermal stability of the poled polymer NTAB/PEK-c 期刊论文 materials letters, 2003, 卷号: 57, 期号: 16-17, 页码: 2612-2615 Pan QW; Fang CS; Qin ZH; Gu QT; Cheng XF; Xu D; Yu JZ 收藏  |  浏览/下载：22/0  |  提交时间：2010/08/12 nonlinear optics  thermal stability  polymer thin films  CHROMOPHORE   Homoepitaxial growth and device characteristics of SiC on Si-face (0001) 6H-SiC 会议论文 11th international conference on molecular beam epitaxy (mbe-xi), beijing, peoples r china, sep 11-15, 2000 Li JM; Sun GS; Zhu SR; Wang L; Luo MC; Zhang FF; Lin LY 收藏  |  浏览/下载：10/0  |  提交时间：2010/11/15 X-ray diffraction  molecular beam epitaxy  semiconducting silicon compounds  LOW-TEMPERATURE GROWTH  FILMS   Homoepitaxial growth and device characteristics of SiC on Si-face (0001) 6H-SiC 期刊论文 journal of crystal growth, 2001, 卷号: 227, 期号: 0, 页码: 816-819 Li JM; Sun GS; Zhu SR; Wang L; Luo MC; Zhang FF; Lin LY 收藏  |  浏览/下载：79/6  |  提交时间：2010/08/12 X-ray diffraction  molecular beam epitaxy  semiconducting silicon compounds  LOW-TEMPERATURE GROWTH  FILMS   A surface kinetics model for the growth of Si1-xGex by UHV/CVD using SiH4/CeH4 期刊论文 journal of crystal growth, 2000, 卷号: 218, 期号: 2-4, 页码: 245-249 Yu Z; Li DZ; Cheng BW; Huang CJ; Lei ZL; Yu JZ; Wang QM; Liang JW 收藏  |  浏览/下载：47/0  |  提交时间：2010/08/12 SiGe/Si  epitaxial growth  surface reaction kinetics  UHV/CVD system  CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION  ATOMIC-HYDROGEN  ADSORPTION  SI(100)  SI2H6  SIH4  MECHANISMS  DESORPTION  PHASE  FILMS   Relaxed GexSi1-x layer formation with reduced dislocation density grown by ultrahigh vacuum chemical vapor deposition 期刊论文 applied physics a-materials science & processing, 2000, 卷号: 70, 期号: 4, 页码: 449-451 Luo GL; Chen PY; Lin XF; Tsien P; Fan TW 收藏  |  浏览/下载：51/0  |  提交时间：2010/08/12 MOLECULAR-BEAM EPITAXY  HIGH-ELECTRON-MOBILITY  BUFFER LAYER  SI/SIGE HETEROSTRUCTURES  SI  TEMPERATURE  SILANE  FILMS   The growth and characterization of GaN grown on an Al2O3 coated (001)Si substrate by metalorganic vapor phase epitaxy 期刊论文 journal of crystal growth, 1998, 卷号: 193, 期号: 4, 页码: 484-490 Wang LS; Liu XL; Zan YD; Wang D; Lu DC; Wang ZG; Wang YT; Cheng LS; Zhang Z 收藏  |  浏览/下载：47/0  |  提交时间：2010/08/12 GaN  MOVPE growth  Al2O3 coated Si substrate  crystal structure  photoluminescence spectrum  SINGLE CRYSTALLINE GAN  HIGH-QUALITY GAN  INTERMEDIATE LAYER  BUFFER LAYERS  SI  FILMS  ALN  DEPOSITION  SAPPHIRE  MOLECULAR-BEAM EPITAXY