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上海大学 [3]
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会议论文 [3]
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2014 [1]
2013 [1]
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Arsenic dimer (As2+) Lightly Doped Drain(LDD)implantation study for 20nm logic device development
会议论文
作者:
Sun, Hao[1]
;
Li, Yong[2]
;
Zhang, Shuai[3]
;
Xie, Xinyun[4]
;
Cai, Gorge[5]
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提交时间:2019/04/30
Impacting Factors and Improvement for within-shot IDSAT uniformity
会议论文
CHINA SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY INTERNATIONAL CONFERENCE 2013 (CSTIC 2013), 2013-03-19
作者:
Tao, Jiajia[1]
;
Li, Yong[2]
;
Shi, WeiMin[3]
;
Jin, Da[4]
;
Li, Helen[5]
收藏
  |  
浏览/下载:12/0
  |  
提交时间:2019/04/30
40nm Low Power MOSFET Transistor VT Fluctuation Control
会议论文
CHINA SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY INTERNATIONAL CONFERENCE 2012 (CSTIC 2012), 2012-03-18
作者:
Zhang, HongXin[1]
;
Li, Jessey[2]
;
Lin, David[3]
;
Huang, S. K.[4]
;
Shi, WeiMin[5]
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提交时间:2019/04/30
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