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| 七级衍射光栅结构及其制备方法、晶圆光刻对准方法 专利
专利号: CN201610140991.2, 申请日期: 2017-10-24, 公开日期: 2016-05-04
作者: 韦亚一 ; 苏晓菁; 董立松; 张利斌
  收藏 | 浏览/下载：9/0 | 提交时间：2018/04/24 |
| 五级衍射光栅结构及其制备方法、晶圆光刻对准方法 专利
专利号: CN201610140129.1, 申请日期: 2017-10-24, 公开日期: 2016-05-25
作者: 苏晓菁; 董立松; 张利斌; 韦亚一
收藏 | 浏览/下载：13/0 | 提交时间：2018/04/25 |
| Characteristic study of image-based alignment for increasing accuracy in lithography application 期刊论文
Journal of Vacuum Science & Technology B, 2017
作者: Zhang LB(张利斌); Dong LS(董立松); Su XJ(苏晓菁); Wei YY(韦亚一)
收藏 | 浏览/下载：15/0 | 提交时间：2018/07/09 |
| Gypmacrophin A, a Rare Pentacyclic Sesterterpenoid, Together with Three Depsides, Functioned as New Chemical Evidence for Gypsoplaca macrophylla (Zahlbr.) Timdal Identification 期刊论文
MOLECULES, 2017, 卷号: 22, 期号: 10, 页码: 1675
作者: Zhou, Yuan-Fei; Shi, Hai-Xia; Hu, Kun; Tang, Jian-Wei; Li, Xing-Ren
收藏 | 浏览/下载：73/0 | 提交时间：2017/11/20
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| 光源掩模协同优化的原理与应用 期刊论文
半导体技术, 2017
作者: 韦亚一; 董立松; 何建芳; 陈文辉
收藏 | 浏览/下载：21/0 | 提交时间：2018/06/08 |
| Applications of RCWA on EUV mask optics 会议论文
作者: Fan TA(范泰安); Dong LS(董立松); Wei YY(韦亚一)
收藏 | 浏览/下载：9/0 | 提交时间：2018/07/26 |
| Necessity of resist model in source mask optimization for negative tone development process 期刊论文
J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS, 2017
作者: Wei YY(韦亚一); Dong LS(董立松); Zhao LJ(赵利俊); Chen WH(陈文辉); Ye TC(叶甜春)
收藏 | 浏览/下载：12/0 | 提交时间：2018/06/08 |
| Optimization of the focus monitor mark in immersion lithography according to illumination type 期刊论文
J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS, 2017
作者: Zhang LB(张利斌); Wei YY(韦亚一); He JF(何建芳); Su XJ(苏晓菁); Dong LS(董立松)
收藏 | 浏览/下载：17/0 | 提交时间：2018/06/08 |
| Mitigating the influence of wafer topography on the implantation process in optical lithography 期刊论文
Optics Letter, 2017
作者: Su XJ(苏晓菁); Dong LS(董立松); Chen WH(陈文辉); Fan TA(范泰安); Wei YY(韦亚一)
收藏 | 浏览/下载：15/0 | 提交时间：2018/06/08 |
| 一种掩膜图形的优化方法、最佳焦平面位置测量方法及系统 专利
专利号: CN201610342206.1, 申请日期: 2017-06-30, 公开日期: 2016-07-20
作者: 韦亚一; 董立松; 宋之洋
收藏 | 浏览/下载：12/0 | 提交时间：2018/04/10 |
