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浏览/检索结果: 共17条，第1-10条 帮助 限定条件 学科主题：光学薄膜     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序题名升序题名降序作者升序作者降序 Investigation on properties of TiO2 thin films deposited at different oxygen pressures 期刊论文 opt. laser technol., 2008, 卷号: 40, 期号: 3, 页码: 550, 554 Shen Yanming; Yu Hua; 姚建可; 邵淑英; 范正修; 贺洪波; 邵建达 收藏  |  浏览/下载：1332/175  |  提交时间：2009/09/22 TiO2 thin films  residual stress  electron beam evaporation   Y2O3 stabilized ZrO2 thin films deposited by electron-beam evaporation: Optical properties, structure and residual stresses 期刊论文 vacuum, 2008, 卷号: 83, 期号: 2, 页码: 366, 371 Xiao Qi-Ling; Xu Cheng; 邵淑英; 邵建达; 范正修 收藏  |  浏览/下载：622/164  |  提交时间：2009/09/22 YSZ thin films  Residual stress  Electron-beam evaporation  Refractive index  Structural properties   电子束蒸发镀膜速率控制 期刊论文 中国激光, 2008, 卷号: 35, 期号: 10, 页码: 1591, 1594 王善成; 方明; 易葵; 邵淑英; 范正修 收藏  |  浏览/下载：872/189  |  提交时间：2009/09/22 薄膜  薄膜工艺  速率控制  比列积分微分控制  Basic principles  Closed-loop controls  Control parameters  Evaporation characteristics  Film process  Improved processes  Proportion integral differential  Rate control  Rate controls   Influence of ytterbia content on residual stress and microstructure of Y2O3-ZrO2 thin films prepared by EB-PVD 期刊论文 chin. phys. lett., 2008, 卷号: 25, 期号: 9, 页码: 3433, 3435 Xiao Qi-Ling; 邵淑英; 贺洪波; 邵建达; 范正修 收藏  |  浏览/下载：644/124  |  提交时间：2009/09/22 STABILIZED-ZIRCONIA TBCS  DEPOSITION  COATINGS  ZRO2   沉积温度对氧化钇稳定氧化锆薄膜残余应力的影响 期刊论文 光学学报, 2008, 卷号: 28, 期号: 5, 页码: 1007, 1011 肖祁陵; 贺洪波; 邵淑英; 邵建达; 范正修 收藏  |  浏览/下载：649/121  |  提交时间：2009/09/22 薄膜光学  残余应力  氧化钇稳定氧化锆薄膜  沉积温度  Deposition temperature  Residual stress  Thin film optics  Yttria-stabilized zirconia thin films  Yttrial-stabilized zirconia films   Influences of annealing on residual stress and structure of HfO2 films 期刊论文 chin. phys. lett., 2007, 卷号: 24, 期号: 10, 页码: 2963, 2966 Shen Yan-Ming; 邵淑英; Deng Zhen-Xia; 贺洪波; 邵建达; 范正修 收藏  |  浏览/下载：742/123  |  提交时间：2009/09/22 THIN-FILMS  BEAM EVAPORATION  COATINGS  DEPOSITION  THICKNESS   Influences of oxygen partial pressure on structure and related properties of ZrO2 thin films prepared by electron beam evaporation deposition 期刊论文 appl. surf. sci., 2007, 卷号: 254, 期号: 2, 页码: 552, 556 Shen Yanming; 邵淑英; Yu Hua; 范正修; 贺洪波; 邵建达 收藏  |  浏览/下载：962/249  |  提交时间：2009/09/22 ZrO2  thin films  electron beam evaporation  residual stress  oxygen partial pressure   薄膜厚度对HfO2薄膜残余应力的影响 期刊论文 稀有金属材料与工程, 2007, 卷号: 36, 期号: 3, 页码: 412, 415 申雁鸣; 贺洪波; 邵淑英; 范正修; 邵建达 收藏  |  浏览/下载：1091/173  |  提交时间：2009/09/22 HfO2薄膜  HfO2 thin film  残余应力  residual stress  膜厚  thin film thickness  电子束蒸发  electron beam evaporation   沉积温度对电子束蒸发HfO2薄膜残余应力的影响 期刊论文 中国激光, 2006, 卷号: 33, 期号: 6, 页码: 827, 831 申雁鸣; 贺洪波; 邵淑英; 范正修 收藏  |  浏览/下载：715/114  |  提交时间：2009/09/22 薄膜  HfO2薄膜  残余应力  沉积温度  基底  电子束蒸发   不同氧分压下电子束蒸发氧化锆薄膜的特性 期刊论文 光电工程, 2006, 卷号: 33, 期号: 6, 页码: 37 张东平; 邵淑英; 黄建兵; 占美琼; 范正修; 邵建达 收藏  |  浏览/下载：617/82  |  提交时间：2009/09/22 氧化锆薄膜  氧分压  表面迁移率  薄膜特性