电子束蒸发镀膜速率控制 | |
王善成 ; 方明 ; 易葵 ; 邵淑英 ; 范正修 | |
刊名 | 中国激光 |
2008 | |
卷号 | 35期号:10页码:1591 |
关键词 | 薄膜 薄膜工艺 速率控制 比列积分微分控制 Basic principles Closed-loop controls Control parameters Evaporation characteristics Film process Improved processes Proportion integral differential Rate control Rate controls |
ISSN号 | 0258-7025 |
其他题名 | Rate control in electron-beam evaporated optical coatings |
中文摘要 | 介绍了电子束蒸发镀膜速率控制的基本原理和方法,选取实际生产中大量使用且蒸发特性较难控制的SiO_2和HfO_2,对两者的电子束蒸发速率控制分别进行了实验研究。采用比例积分微分(PID)闭环反馈控制,通过Ziegler-Nichols工程经验公式进行原始参量整定,并在实验的基础上对控制器的原始参量进行调整以及对积分作用和微分作用进行分区处理,速率控制的实验结果表明,采用该参量整定方法并结合工艺流程的改进,能获得良好的速率控制。针对速率控制中存在的难点问题进行了分析,并提出改进措施:将速率控制和电子枪扫描控制相结合能进一步改善速率控制。; The basic principle and methods of rate control in e-beam evaporated optical coatings are introduced. Rate control experiments are performed based on materials of SiO |
学科主题 | 光学薄膜 |
收录类别 | EI |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2009-09-22 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/4650] |
专题 | 上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 王善成,方明,易葵,等. 电子束蒸发镀膜速率控制[J]. 中国激光,2008,35(10):1591, 1594. |
APA | 王善成,方明,易葵,邵淑英,&范正修.(2008).电子束蒸发镀膜速率控制.中国激光,35(10),1591. |
MLA | 王善成,et al."电子束蒸发镀膜速率控制".中国激光 35.10(2008):1591. |
个性服务 |
查看访问统计 |
相关权益政策 |
暂无数据 |
收藏/分享 |
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。
修改评论