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半导体研究所 [17]
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期刊论文 [17]
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Influence of high-dose nitrogen implantation on the positive charge density of the buried oxide of silicon-on-insulator wafers
期刊论文
Acta physica sinica, 2011, 卷号: 60, 期号: 5, 页码: 6
作者:
Tang Hai-Ma
;
Zheng Zhong-Shan
;
Zhang En-Xia
;
Yu Fang
;
Li Ning
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浏览/下载:24/0
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提交时间:2019/05/12
Separation by oxygen implantation
Buried oxide
Nitrogen implantation
Positive charge density
Investigation of cracks in GaN films grown by combined hydride and metal organic vapor-phase epitaxial method
期刊论文
nanoscale research letters, 2011, 卷号: 6, 页码: article no.69
作者:
Song HP
;
Wei HY
;
Li CM
;
Jiao CM
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浏览/下载:65/4
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提交时间:2011/07/05
CATHODOLUMINESCENCE CHARACTERIZATION
GALLIUM NITRIDE
STRESSES
LAYERS
HETEROSTRUCTURE
DEPOSITION
CONSTANTS
MECHANISM
SAPPHIRE
STRAIN
Formation of silicon nanocrystals embedded in high-kappa dielectric HfO2 and their application for charge storage
期刊论文
journal of vacuum science & technology b, 2011, 卷号: 29, 期号: 2, 页码: article no.21018
Li WL
;
Jia R
;
Chen C
;
Li HF
;
Liu XY
;
Yue HH
;
Ding WC
;
Ye TC
;
Kasai S
;
Hashizume T
;
Wu NJ
;
Xu BS
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浏览/下载:38/2
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提交时间:2011/07/05
SI NANOCRYSTALS
MEMORY
TECHNOLOGY
DEPOSITION
VOLTAGE
LAYER
Influence of high-dose nitrogen implantation on the positive charge density of the buried oxide of silicon-on-insulator wafers
期刊论文
acta physica sinica, 2011, 卷号: 60, 期号: 5, 页码: article no.56104
作者:
Yu F
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浏览/下载:93/6
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提交时间:2011/07/06
separation by oxygen implantation
buried oxide
nitrogen implantation
positive charge density
RADIATION HARDNESS
IMPLANTING NITROGEN
ION-IMPLANTATION
IMPROVEMENT
TECHNOLOGY
OXYGEN
LAYER
Fermi-Level Pinning at Metal/High-k Interface Influenced by Electron State Density of Metal Gate
期刊论文
ieee electron device letters, 2010, 卷号: 31, 期号: 10, 页码: 1101-1103
Yang ZC (Yang Z. C.)
;
Huang AP (Huang A. P.)
;
Zheng XH (Zheng X. H.)
;
Xiao ZS (Xiao Z. S.)
;
Liu XY (Liu X. Y.)
;
Zhang XW (Zhang X. W.)
;
Chu PK (Chu Paul K.)
;
Wang WW (Wang W. W.)
收藏
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浏览/下载:62/0
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提交时间:2010/11/14
Electron state density
Fermi-level pinning (FLP)
MIS structures
work function (WF)
WORK FUNCTION
Influence of nitrogen dose on the charge density of nitrogen-implanted buried oxide in SOI wafers
期刊论文
journal of semiconductors, 2010, 卷号: 31, 期号: 2, 页码: 99-102
Zheng Zhongshan
;
Liu Zhongli
;
Li Ning
;
Li Guohua
;
Zhang Enxia
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浏览/下载:17/0
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提交时间:2011/08/16
Observation of the surface circular photogalvanic effect in inn films
期刊论文
Solid state communications, 2009, 卷号: 149, 期号: 25-26, 页码: 1004-1007
作者:
Zhang, Z.
;
Zhang, R.
;
Xie, Z. L.
;
Liu, B.
;
Li, M.
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浏览/下载:18/0
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提交时间:2019/05/12
Inn
Surface charge accumulation layer
Spin-dependent current
Spin splitting
Observation of the surface circular photogalvanic effect in InN films
期刊论文
solid state communications, 2009, 卷号: 149, 期号: 25-26, 页码: 1004-1007
Zhang Z
;
Zhang R
;
Xie ZL
;
Liu B
;
Li M
;
Fu DY
;
Fang HN
;
Xiu XQ
;
Lu H
;
Zheng YD
;
Chen YH
;
Tang CG
;
Wang ZG
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浏览/下载:158/1
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提交时间:2010/03/08
InN
Surface charge accumulation layer
Spin-dependent current
Spin splitting
Effect of implantation of nitrogen into SIMOX buried oxide on its fixed positive charge density
期刊论文
acta physica sinica, 2007, 卷号: 56, 期号: 9, 页码: 5446-5451
Zheng, ZS (Zheng Zhong-Shan)
;
Zhang, EX (Zhang En-Xia)
;
Liu, ZL (Liu Zhong-Li)
;
Zhang, ZX (Zhang Zheng-Xuan)
;
Li, N (Li Ning)
;
Li, GH (Li Guo-Hua)
收藏
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浏览/下载:34/0
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提交时间:2010/03/29
SIMOX
Using different carrier gases to control AlN film stress and the effect on morphology, structural properties and optical properties
期刊论文
journal of physics d-applied physics, 2007, 卷号: 40, 期号: 23, 页码: 7462-7466
Hu, WG
;
Liu, XL
;
Jiao, CM
;
Wei, HY
;
Kang, TT
;
Zhang, PF
;
Zhang, RQ
;
Fan, HB
;
Zhu, QS
收藏
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浏览/下载:54/4
  |  
提交时间:2010/03/08
VAPOR-PHASE EPITAXY
WURTZITE-TYPE CRYSTALS
THIN-FILMS
ALUMINUM NITRIDE
INTRINSIC STRESS
GAN
SAPPHIRE
AIN
DEPOSITION
STRAIN
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