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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序题名升序题名降序作者升序作者降序 Applying the plasma physical sputtering process to SRF cavity treatment: Simulation and Experiment Study 期刊论文 APPLIED SURFACE SCIENCE, 2022, 卷号: 574, 页码: 10 作者:  Zhu, Tongtong;  Luo, Didi;  Wu, Andong;  Tan, Teng;  Guo, Hao 收藏  |  浏览/下载：77/0  |  提交时间：2022/01/12 SRF cavities  Plasma processing  Self-consistent model  Sputtering-yield probability distribution  IEDF