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| 总剂量辐射环境下微纳器件长期可靠性退化机理探究 学位论文 中国科学院新疆理化技术研究所: 中国科学院大学, 2019 作者: 赵京昊 收藏  |  浏览/下载:16/0  |  提交时间:2019/07/15
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| SiO_2基底Nb原位掺杂MoS_2纳米薄膜的制备及场效应 期刊论文 2019, 卷号: 33, 期号: 12, 页码: 1975-1982 作者: 孙钰琨; 白波; 马美玲; 王洪伦; 索有瑞 收藏  |  浏览/下载:38/0  |  提交时间:2019/11/26
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| 无膜且具有重现性的MoS场效应晶体管生物传感器用于高灵敏度和高选择性地检测FGF21 期刊论文 Science China Materials, 2019, 卷号: 第10期, 页码: 1479-1487 作者: 龚新星; 刘业茹; 向海燕; 刘航; 刘志刚 收藏  |  浏览/下载:6/0  |  提交时间:2019/12/13 |
| 一种并联式激光器驱动电路 专利 专利号: CN207753293U, 申请日期: 2018-08-21, 公开日期: 2018-08-21 作者: 古小枫; 杨俊; 胡攀攀 收藏  |  浏览/下载:13/0  |  提交时间:2019/12/24 |
| HfO2封装对以ALD HfO2为后栅介电材料的低密度MoS2晶体管的电性能的影响 科技动态 2018 作者: yaoxn@llas.ac.cn 收藏  |  浏览/下载:3/0  |  提交时间:2018/07/05 |
| 半导体激光电源的水冷装置与半导体激光设备 专利 专利号: CN207265411U, 申请日期: 2018-04-20, 公开日期: 2018-04-20 作者: 朱宝华; 邓文; 陆业钊; 郑沅; 钟绪浪 收藏  |  浏览/下载:13/0  |  提交时间:2019/12/24 |
| 一种MOS晶体管的制造方法 专利 专利号: CN201310713804.1, 申请日期: 2018-03-16, 公开日期: 2015-06-24 作者: 刘云飞; 尹海洲; 李睿 收藏  |  浏览/下载:12/0  |  提交时间:2019/03/14 |
| 沟道宽度对65nm金属氧化物半导体器件负偏压温度不稳定性的影响研究 期刊论文 电子学报, 2018, 卷号: 46, 期号: 5, 页码: 1128-1132 作者: 崔江维; 郑齐文; 余德昭; 周航; 苏丹丹 收藏  |  浏览/下载:33/0  |  提交时间:2018/07/06
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| γ射线辐照对130 nm部分耗尽SOI MOS器件栅氧经时击穿可靠性的影响 期刊论文 红外与激光工程, 2018, 卷号: 47, 期号: 9, 页码: 214-219 作者: 马腾; 苏丹丹; 周航; 郑齐文; 崔江维 收藏  |  浏览/下载:24/0  |  提交时间:2018/10/18
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| 杂质吸附对背栅MoS2场效应晶体管电学性能的影响 期刊论文 电子器件, 2018, 卷号: 41, 页码: 1367-1371 作者: 蔡剑辉[1]; 陈治西[2]; 刘晨鹤[3]; 张栋梁[4]; 刘强[5] 收藏  |  浏览/下载:7/0  |  提交时间:2019/04/22
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