CORC

浏览/检索结果: 共163条,第1-10条 帮助

已选(0)清除 条数/页:   排序方式:
总剂量辐射环境下微纳器件长期可靠性退化机理探究 学位论文
中国科学院新疆理化技术研究所: 中国科学院大学, 2019
作者:  赵京昊
收藏  |  浏览/下载:16/0  |  提交时间:2019/07/15
SiO_2基底Nb原位掺杂MoS_2纳米薄膜的制备及场效应 期刊论文
2019, 卷号: 33, 期号: 12, 页码: 1975-1982
作者:  孙钰琨;  白波;  马美玲;  王洪伦;  索有瑞
收藏  |  浏览/下载:38/0  |  提交时间:2019/11/26
无膜且具有重现性的MoS场效应晶体管生物传感器用于高灵敏度和高选择性地检测FGF21 期刊论文
Science China Materials, 2019, 卷号: 第10期, 页码: 1479-1487
作者:  龚新星;  刘业茹;  向海燕;  刘航;  刘志刚
收藏  |  浏览/下载:6/0  |  提交时间:2019/12/13
一种并联式激光器驱动电路 专利
专利号: CN207753293U, 申请日期: 2018-08-21, 公开日期: 2018-08-21
作者:  古小枫;  杨俊;  胡攀攀
收藏  |  浏览/下载:13/0  |  提交时间:2019/12/24
HfO2封装对以ALD HfO2为后栅介电材料的低密度MoS2晶体管的电性能的影响 科技动态
2018
作者:  yaoxn@llas.ac.cn
收藏  |  浏览/下载:3/0  |  提交时间:2018/07/05
半导体激光电源的水冷装置与半导体激光设备 专利
专利号: CN207265411U, 申请日期: 2018-04-20, 公开日期: 2018-04-20
作者:  朱宝华;  邓文;  陆业钊;  郑沅;  钟绪浪
收藏  |  浏览/下载:13/0  |  提交时间:2019/12/24
一种MOS晶体管的制造方法 专利
专利号: CN201310713804.1, 申请日期: 2018-03-16, 公开日期: 2015-06-24
作者:  刘云飞;  尹海洲;  李睿
收藏  |  浏览/下载:12/0  |  提交时间:2019/03/14
沟道宽度对65nm金属氧化物半导体器件负偏压温度不稳定性的影响研究 期刊论文
电子学报, 2018, 卷号: 46, 期号: 5, 页码: 1128-1132
作者:  崔江维;  郑齐文;  余德昭;  周航;  苏丹丹
收藏  |  浏览/下载:33/0  |  提交时间:2018/07/06
γ射线辐照对130 nm部分耗尽SOI MOS器件栅氧经时击穿可靠性的影响 期刊论文
红外与激光工程, 2018, 卷号: 47, 期号: 9, 页码: 214-219
作者:  马腾;  苏丹丹;  周航;  郑齐文;  崔江维
收藏  |  浏览/下载:24/0  |  提交时间:2018/10/18
杂质吸附对背栅MoS2场效应晶体管电学性能的影响 期刊论文
电子器件, 2018, 卷号: 41, 页码: 1367-1371
作者:  蔡剑辉[1];  陈治西[2];  刘晨鹤[3];  张栋梁[4];  刘强[5]
收藏  |  浏览/下载:7/0  |  提交时间:2019/04/22


©版权所有 ©2017 CSpace - Powered by CSpace