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浏览/检索结果: 共4条，第1-4条 帮助 已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 低温常压条件下NaCl-H_2O体系对铜活化迁移的影响因素Ⅱ:pH值和盐度 期刊论文 矿床地质, 2015, 卷号: 34, 期号: 3, 页码: 581-588 作者:  任彩霞;  马黎春;  汤庆峰;  张琪 收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2018/11/11 地球化学  卤水  NaCl-H_20体系  盐度  pH值  铜活化   低温常压条件下NaCl-H_2O体系对铜活化迁移的影响因素I :温度、CO_2及H_2S气体 期刊论文 矿床地质, 2015, 卷号: 34, 期号: 2, 页码: 397-403 作者:  任彩霞;  马黎春;  汤庆峰;  曹养同 收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2018/11/11 地球化学  卤水  铜活化  温度  CO_2  H_2S   载铜活性炭对CO的吸附作用 期刊论文 http://epub.cnki.net/grid2008/brief/detailj.aspx?filename=MTZH199701016&dbname=CJFQ1997, 2014, 2014 宗志敏; 刘建周; 张卫红; 许海霞; 刘光芬; 梁存桢; 魏贤勇 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2017/06/14 活性炭  一价铜盐  一氧化碳   化学镀铜过程混合电位本质的研究 期刊论文 2004 谷新; 胡光辉; 王周成; 林昌健 收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2011/04/26 化学镀铜  铜基体  陶瓷基体  新生铜  混合电位  诱发时间  活化工艺  Electroless copper plating  Copper substrate  Ceramic substrate  Fresh copper  Mixed potential  Induction time  Activation process