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浏览/检索结果: 共6条，第1-6条 帮助 限定条件 专题：微电子研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Understanding dipole formation at dielectric/dielectric hetero-interface 期刊论文 APPLIED PHYSICS LETTERS, 2018 作者:  Wang YR(王艳蓉);  Xiang JJ(项金娟);  Yang H(杨红);  Jing Zhang;  Zhao C(赵超) 收藏  |  浏览/下载：40/0  |  提交时间：2019/05/20 Identification of interfacial defects in a Ge gate stack based on ozone passivation 期刊论文 Semiconductor Science and Technology, 2018 作者:  Wang YR(王艳蓉);  Xiang JJ(项金娟);  Yang H(杨红);  Zhang J(张静);  Zhao C(赵超) 收藏  |  浏览/下载：38/0  |  提交时间：2019/05/20 Comprehensive investigation of the interfacial charges and dipole in GeOx/Al2O3 gate 期刊论文 Japanese Journal of Applied Physics, 2018 作者:  Wang YR(王艳蓉);  Xiang JJ(项金娟);  Yang H(杨红);  Zhang J(张静);  Zhao C(赵超) 收藏  |  浏览/下载：30/0  |  提交时间：2019/05/20 Hole mobility degradation by remote Coulomb scattering and charge distribution in Al2O3/GeOx gate stacks in bulk Ge pMOSFET with GeOx grown by ozone oxidation 期刊论文 JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS, 2017 作者:  Ye TC(叶甜春);  Zhou LX(周丽星);  Wang XL(王晓磊);  Ma XL(马雪丽);  Xiang JJ(项金娟) 收藏  |  浏览/下载：7/0  |  提交时间：2018/07/09 Crystallization behaviors of ultrathin Al-doped HfO2 amorphous films grown by atomic layer deposition 期刊论文 Chin. Phys. B, 2017 作者:  Wang XL(王晓磊);  Xiang JJ(项金娟);  Yang H(杨红);  Ma XL(马雪丽);  Zhu HL(朱慧珑) 收藏  |  浏览/下载：5/0  |  提交时间：2018/06/08 Planar Bulk MOSFETs With Self-Aligned Pocket Well to Improve Short-Channel Effects and Enhance Device Performance 期刊论文 IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES, 2015 作者:  Zhao YY(赵玉印);  He XB(贺晓彬);  Gao JF(高建峰);  Xu Q(徐强);  Li JJ(李俊杰) 收藏  |  浏览/下载：17/0  |  提交时间：2016/05/31