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Fast rigorous model for mask spectrum simulation and analysis of mask shadowing effects in EUV lithography 会议论文
conference on extreme ultraviolet (euv) lithography v
作者:  Liu, Xiaolei;  Wang, Xiangzhao;  Li, Sikun;  Yan, Guanyong;  Erdmann, Andreas
收藏  |  浏览/下载:11/0  |  提交时间:2016/11/28
基于随机并行梯度速降算法的光刻机光源与掩模联合优化方法 期刊论文
光学学报, 2014, 卷号: 34, 期号: 9, 页码: 911002
作者:  李兆泽;  李思坤;  王向朝
收藏  |  浏览/下载:37/0  |  提交时间:2016/11/25
基于随机并行梯度速降算法的光刻机光源与掩模联合优化方法 期刊论文
光学学报, 2014, 卷号: 34, 期号: 9, 页码: 911002
作者:  李兆泽;  李思坤;  王向朝
收藏  |  浏览/下载:17/0  |  提交时间:2016/11/28
Fast model for mask spectrum simulation and analysis of mask shadowing effects in extreme ultraviolet lithography 期刊论文
j. micro-nanolithogr. mems moems, 2014, 卷号: 13, 期号: 3, 页码: 33007
作者:  Liu, Xiaolei;  Wang, Xiangzhao;  Li, Sikun;  Yan, Guanyong;  Erdmann, Andreas
收藏  |  浏览/下载:17/0  |  提交时间:2016/11/28
基于随机并行梯度速降算法的光刻机光源与掩模联合优化方法 期刊论文
光学学报, 2014, 卷号: 34, 期号: 9, 页码: 911002
作者:  李兆泽;  李思坤;  王向朝
收藏  |  浏览/下载:19/0  |  提交时间:2016/11/28
Fast model for mask spectrum simulation and analysis of mask shadowing effects in extreme ultraviolet lithography 期刊论文
j. micro-nanolithogr. mems moems, 2014, 卷号: 13, 期号: 3, 页码: 33007
作者:  Liu, Xiaolei;  Wang, Xiangzhao;  Li, Sikun;  Yan, Guanyong;  Erdmann, Andreas
收藏  |  浏览/下载:15/0  |  提交时间:2016/11/28
高功率装置中的光束近场研究 学位论文
博士: 中国科学院上海光学精密机械研究所, 2010
作者:  李小燕
收藏  |  浏览/下载:11/0  |  提交时间:2016/11/28
Series representation of the Gaussian beam far-field diffracted by annular aperture 期刊论文
optik, 2008, 卷号: 119, 期号: 16, 页码: 766, 768
孙建锋; 刘立人; 云茂金; 万玲玉
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部分相干光在星潜激光通信中的传输性质研究 学位论文
博士: 中国科学院上海光学精密机械研究所, 2007
作者:  鲁伟
收藏  |  浏览/下载:32/0  |  提交时间:2016/11/28
涡旋光钛宝石激光器和径向偏振光形成级联纵向电场特性研究 学位论文
作者:  谭诗文
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