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浏览/检索结果: 共3条，第1-3条 帮助 限定条件 专题：微电子研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Thermal atomic layer deposition of TaAlC with TaCl5 and TMA as precursors 期刊论文 ECS Journal of Solid State Science and Technology, 2016 作者:  Xiang JJ(项金娟) 收藏  |  浏览/下载：7/0  |  提交时间：2017/05/09 Investigation of N type metal TiAlC by thermal atomic layer deposition using TiCl4 and TEA as precursors 期刊论文 ECS Journal of Solid State Science and Technology, 2016 作者:  Xiang JJ(项金娟);  Li TT(李亭亭);  Wang XL(王晓磊);  Li JF(李俊峰) 收藏  |  浏览/下载：12/0  |  提交时间：2017/05/09 Application of Atomic Layer Deposition Tungsten (ALD W) as gate filling metal for 22 nm and beyond nodes CMOS technology 期刊论文 ECS Transactions, 2013 作者:  Xu Q(徐强);  Wang GL(王桂磊);  Yang T(杨涛) 收藏  |  浏览/下载：13/0  |  提交时间：2014/10/30