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内容类型
期刊论文 [30]
专利 [5]
会议论文 [2]
其他 [1]
发表日期
1999 [38]
学科主题
半导体材料 [3]
半导体物理 [3]
光电子学 [1]
力学 [1]
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发表日期:1999
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定向凝固NiAl—28Cr—5.5Mo-0.5Hf合金中Ni_2AlHf相和Ni_(16)Hf_6Si_7相的研究
期刊论文
金属学报, 1999, 期号: 11, 页码: 0-0+0-0
陈玉喜,崔传勇,刘志权,刘志权,贺连龙,郭建亭,李斗星
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浏览/下载:8/0
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提交时间:2012/04/12
HREM
定向凝固
G-相Ni16Hf6Si7
Heusler相Ni2AlHf
一种高强度、高稳定性铸铁的研究及应用
期刊论文
光学精密工程, 1999, 期号: 04, 页码: 111-118
刘殿双
;
黄述哲
;
张艳鸿
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浏览/下载:6/0
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提交时间:2013/03/11
Si/C比
Mo
Cu合金化
应力松弛
抗蠕变
Bond-responsive relaxation model: a microscopic property of a si(111)-7 x 7 surface responding to the desorption of single adatoms
期刊论文
Surface science, 1999, 卷号: 436, 期号: 1-3, 页码: L729-l734
作者:
Zhao, YF
;
Pang, SJ
;
Liu, SD
;
Xie, SS
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浏览/下载:24/0
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提交时间:2019/05/09
Silicon surface
Relaxation
Tight-binding calculation
半導体レーザおよびその製造方法
专利
专利号: JP1999186646A, 申请日期: 1999-07-09, 公开日期: 1999-07-09
作者:
宮永 良子
;
上山 智
;
吉井 重雄
;
佐々井 洋一
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浏览/下载:0/0
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提交时间:2020/01/18
半導体素子
专利
专利号: JP1999177140A, 申请日期: 1999-07-02, 公开日期: 1999-07-02
作者:
千代 敏明
;
柴田 直樹
;
伊藤 潤
;
野杁 静代
收藏
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浏览/下载:9/0
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提交时间:2020/01/13
半導体レーザ素子およびその製造方法
专利
专利号: JP2945568B2, 申请日期: 1999-06-25, 公开日期: 1999-09-06
作者:
細羽 弘之
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浏览/下载:7/0
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提交时间:2020/01/13
The effects of carbonized buffer layer on the growth of sic on si
期刊论文
Journal of crystal growth, 1999, 卷号: 201, 页码: 564-567
作者:
Wang, YS
;
Li, JM
;
Zhang, FF
;
Lin, LY
收藏
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浏览/下载:11/0
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提交时间:2019/05/12
Si
Sic
Carbonization
Rheed
Single crystal epilayer
半導体の製造方法及びその製造装置
专利
专利号: JP1999074199A, 申请日期: 1999-03-16, 公开日期: 1999-03-16
作者:
西川 孝司
;
北畠 真
;
佐々井 洋一
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浏览/下载:9/0
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提交时间:2019/12/30
Growth mode and strain relaxation of inas on inp (111)a grown by molecular beam epitaxy
期刊论文
Applied physics letters, 1999, 卷号: 74, 期号: 10, 页码: 1388-1390
作者:
Li, HX
;
Daniels-Race, T
;
Wang, ZG
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浏览/下载:14/0
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提交时间:2019/05/12
半導体レーザ素子およびその製造方法
专利
专利号: JP2875440B2, 申请日期: 1999-01-14, 公开日期: 1999-03-31
作者:
細羽 弘之
;
▲吉▼田 智彦
;
兼岩 進治
;
松本 晃広
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浏览/下载:7/0
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提交时间:2020/01/13
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