|
已选(0)清除
条数/页： 排序方式：
|
| Lead Oxalate-Induced Nucleation Retardation for High-Performance Indoor and Outdoor Perovskite Photovoltaics 期刊论文
ACS APPLIED MATERIALS & INTERFACES, 2020, 卷号: 12, 期号: 1, 页码: 836-843
作者: Dong, C; Li, M; Zhang, Y; Wang, KL; Yuan, S
  收藏 | 浏览/下载：6/0 | 提交时间：2021/09/06
|
| A Novel High Volume Manufacturing Method for Defect-free and High-yield SiN Micro-sieve Membranes 期刊论文
Journal of Microelectronic Manufacturing, 2018
作者: Zhao C(赵超) ; Wei YY(韦亚一); Chen R(陈睿); Dong LS(董立松); Liu YS(刘艳松)
收藏 | 浏览/下载：32/0 | 提交时间：2019/05/05 |
| Retargeting of forbidden-dense-alternate structures for lithography capability improvement in advanced nodes 期刊论文
APPLIED OPTICS, 2018
作者: He JF(何建芳); Dong LS(董立松); Ye TC(叶甜春); Zhao LJ(赵利俊); Wei YY(韦亚一)
收藏 | 浏览/下载：20/0 | 提交时间：2019/05/05 |
| Pattern quality and defect evaluation based on cross correlation and power spectral density methods 期刊论文
J Vac Sci Technol B, 2018
作者: Zhang LB(张利斌); Ma L(马乐); Chen R(陈睿); He JF(何建芳); Su XJ(苏晓菁)
收藏 | 浏览/下载：23/0 | 提交时间：2019/05/05 |
| Determination of the number of ψ(3686)events at BESⅢ 期刊论文
Chinese Physics C, 2018, 卷号: 第42卷 第2期, 页码: 7-17
作者: Mai DN(麦迪娜); M.N.Achasov; Ai XC(艾小聪); D.J.Ambrose; A.Amoroso
收藏 | 浏览/下载：77/0 | 提交时间：2019/12/26
|
| Characteristic study of image-based alignment for increasing accuracy in lithography application 期刊论文
Journal of Vacuum Science & Technology B, 2017
作者: Zhang LB(张利斌); Dong LS(董立松); Su XJ(苏晓菁); Wei YY(韦亚一)
收藏 | 浏览/下载：15/0 | 提交时间：2018/07/09 |
| Applications of RCWA on EUV mask optics 会议论文
作者: Fan TA(范泰安); Dong LS(董立松); Wei YY(韦亚一)
收藏 | 浏览/下载：9/0 | 提交时间：2018/07/26 |
| Necessity of resist model in source mask optimization for negative tone development process 期刊论文
J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS, 2017
作者: Wei YY(韦亚一); Dong LS(董立松); Zhao LJ(赵利俊); Chen WH(陈文辉); Ye TC(叶甜春)
收藏 | 浏览/下载：12/0 | 提交时间：2018/06/08 |
| Optimization of the focus monitor mark in immersion lithography according to illumination type 期刊论文
J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS, 2017
作者: Zhang LB(张利斌); Wei YY(韦亚一); He JF(何建芳); Su XJ(苏晓菁); Dong LS(董立松)
收藏 | 浏览/下载：17/0 | 提交时间：2018/06/08 |
| Mitigating the influence of wafer topography on the implantation process in optical lithography 期刊论文
Optics Letter, 2017
作者: Su XJ(苏晓菁); Dong LS(董立松); Chen WH(陈文辉); Fan TA(范泰安); Wei YY(韦亚一)
收藏 | 浏览/下载：15/0 | 提交时间：2018/06/08 |
