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浏览/检索结果: 共2条，第1-2条 帮助 已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 表面活性剂复配对蓝宝石CMP后清洗效果的影响 期刊论文 微纳电子技术, 2019, 卷号: 56, 期号: 2, 页码: 151-156 作者:  韦嘉辉[1];  周海[2];  高晗[3];  梁志强[4] 收藏  |  浏览/下载：12/0  |  提交时间：2019/12/24 蓝宝石  化学机械抛光(CMP)  清洗  表面活性剂复配  超声波   抛光垫特性对氧化镓CMP影响的实验研究 期刊论文 工具技术, 2018, 期号: 06, 页码: 29-32 作者:  龚凯[1];  周海[2];  韦嘉辉[3];  宋放[4];  王晨宇[5] 收藏  |  浏览/下载：5/0  |  提交时间：2019/12/24 抛光垫特性  单晶氧化镓  化学机械抛光  材料去除率  表面质量