| 表面活性剂复配对蓝宝石CMP后清洗效果的影响 | |
| 韦嘉辉[1]; 周海[2]; 高晗[3]; 梁志强[4] | |
| 刊名 | 微纳电子技术
 |
| 2019 | |
| 卷号 | 56期号:2页码:151-156 |
| 关键词 | 蓝宝石 化学机械抛光(CMP) 清洗 表面活性剂复配 超声波 |
| ISSN号 | 1671-4776 |
| DOI | http://dx.doi.org/10.13250/j.cnki.wndz.2019.02.011 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5324503 |
| 专题 | 江苏大学 |
| 作者单位 | 1.[1]江苏大学机械工程学院,江苏镇江212013 2.盐城工学院机械工程学院,江苏盐城224051[2]盐城工学院机械工程学院,江苏盐城,224051[3]盐城工学院机械工程学院,江苏盐城,224051[4]北京理工大学机械工程学院,北京,100081 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 韦嘉辉[1],周海[2],高晗[3],等. 表面活性剂复配对蓝宝石CMP后清洗效果的影响[J]. 微纳电子技术,2019,56(2):151-156. |
| APA | 韦嘉辉[1],周海[2],高晗[3],&梁志强[4].(2019).表面活性剂复配对蓝宝石CMP后清洗效果的影响.微纳电子技术,56(2),151-156. |
| MLA | 韦嘉辉[1],et al."表面活性剂复配对蓝宝石CMP后清洗效果的影响".微纳电子技术 56.2(2019):151-156. |
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