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科研机构
北京大学 [4]
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期刊论文 [4]
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2016 [1]
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A High-Voltage (> 600 V) N-Island LDMOS With Step-Doped Drift Region in Partial SOI Technology
期刊论文
IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES, 2016
Hu, Yue
;
Wang, Hao
;
Du, Caixia
;
Ma, Miaomiao
;
Chan, Mansun
;
He, Jin
;
Wang, Gaofeng
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浏览/下载:2/0
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提交时间:2017/12/03
Breakdown voltage (BV)
lateral double-diffused MOS (LDMOS)
N-island (NIS)
partial silicon-on-insulator (PSOI)
step-doped drift (SDD) region
BURIED P LAYER
POWER LDMOS
IMPROVEMENT
DEVICES
TRENCH
FILM
TRANSISTOR
A new analytical model for the surface field distribution and optimization of thin film SOI RESURF devices
期刊论文
international journal of electronics, 2002
He, J
;
Zhang, X
;
Wang, YY
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浏览/下载:6/0
  |  
提交时间:2015/11/10
BREAKDOWN VOLTAGE
MOSFETS
A concise analytical model for the surface field distribution of TFSOI RESURF devices including interface charge effect
期刊论文
chinese journal of electronics, 2002
He, J
;
Zhang, X
;
Huang, R
;
Wang, YY
收藏
  |  
浏览/下载:3/0
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提交时间:2015/11/13
thin film silicon-on-insulator (TFSOI)
reduced surface field (RESURF)
power devices
surface field
interface charge
breakdown voltage
BREAKDOWN VOLTAGE
SOI
MOSFETS
FILM
Analytical model for the ideal breakdown voltage and optimum doping profile of SOI RESURF LDMOS
期刊论文
chinese journal of electronics, 2001
He, J
;
Zhang, X
;
Huang, R
;
Wang, YY
收藏
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浏览/下载:2/0
  |  
提交时间:2015/11/13
LDMOS
breakdown voltage
silicon-on-insulator (SOI) reduced surface field
(RESURF) structure
optimum doping profile
power device
high voltage power integration circuits (HVIC)
DEVICES
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