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Influence of dry etching on the properties of SiO2 and HfO2 single layers 期刊论文
APPLIED OPTICS, 2020, 卷号: 59, 期号: 5, 页码: A128-A134
作者:  Xie, LY;  Liu, HS;  Zhao, J;  Jiao, HF;  Zhang, JL
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The Optical Absorption and Photoluminescence Characteristics of Evaporated and IAD HfO2 Thin Films 期刊论文
COATINGS, 2019, 卷号: 9, 期号: 5
作者:  Kong, Mingdong;  Li, Bincheng;  Guo, Chun;  Zeng, Peng;  Wei, Ming
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Determination of refractive index and thickness of YbF3 thin films deposited at different bias voltages of APS ion source from spectrophotometric methods 期刊论文
ADVANCED OPTICAL TECHNOLOGIES, 2018, 卷号: 7, 期号: 1-2, 页码: 33-37
作者:  Zhang, Yinhua;  Xiong, Shengming;  Huang, Wei;  Zhang, Kepeng
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Investigation of laser-induced damage threshold of hafnia/silica high reflectors at 1064 nm 会议论文
Proceedings of SPIE: Pacific Rim Laser Damage 2011: Optical Materials for High Power Lasers, 2012
作者:  Ai, Wanjun;  Xiong, Shengming
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Characterization of hafnia thin films made with different deposition technologies 会议论文
Proc. of SPIE, 2011
作者:  Wanjun Ai;  Shengming Xiong
收藏  |  浏览/下载：7/0  |  提交时间：2016/11/25
Influence of deposition conditions on the microstructure of oxides thin films 期刊论文
appl. surf. sci., 2007, 卷号: 253, 期号: 21, 页码: 8782, 8787
Tian Guanglei; Wu Shigang; Shu Kangying; Qin Laishun; 邵建达
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Device for compensating for thermal instabilities of laser diodes 专利
专利号: US5043991, 申请日期: 1991-08-27, 公开日期: 1991-08-27
作者:  BRADLEY, ERIC M.
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