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苏州纳米技术与纳米仿... [5]
内容类型
期刊论文 [3]
专利 [2]
发表日期
2018 [1]
2016 [2]
2015 [2]
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专题:苏州纳米技术与纳米仿生研究所
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Ⅲ族氮化物HEMT与GaN激光器的集成单片及其制作方法
专利
申请日期: 2018-11-09,
作者:
张志利,蔡勇,张宝顺,付凯,于国浩,孙世闯,宋亮
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浏览/下载:119/0
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提交时间:2019/04/01
Fabrication of normally-off AlGaN/GaN metal-insulator-semiconductor high-electron-mobility transistors by photo-electrochemical gate recess etching in ionic liquid
期刊论文
APPLIED PHYSICS EXPRESS, 2016, 卷号: 9, 期号: 8
作者:
Zhang, ZL(张志利)
;
Qin, SJ(秦双娇)
;
Fu, K(付凯)
;
Yu, GH(于国浩)
;
Li, WY
收藏
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浏览/下载:75/0
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提交时间:2017/03/11
Studies on High-Voltage GaN-on-Si MIS-HEMTs Using LPCVD Si3N4 as Gate Dielectric and Passivation Layer
期刊论文
IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES, 2016, 卷号: 63, 期号: 2
作者:
Zhang, ZL(张志利)
;
Yu, GH(于国浩)
;
Zhang, XD(张晓东)
;
Deng, XG(邓旭光)
;
Li, SM(李水明)
收藏
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浏览/下载:36/0
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提交时间:2017/03/11
热释电薄膜红外焦平面探测器芯片及其制作方法
专利
专利类型: 发明, 专利号: CN103346250B, 申请日期: 2015-09-09,
作者:
朱煜
;
褚君浩
;
张耀辉
;
宋贺伦
;
王建禄
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浏览/下载:31/0
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提交时间:2015/11/25
Normally Off AlGaN/GaN MIS-High-Electron Mobility Transistors Fabricated by Using Low Pressure Chemical Vapor Deposition Si3N4 Gate Dielectric and Standard Fluorine Ion Implantation
期刊论文
IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS, 2015, 卷号: 36, 期号: 11, 页码: 4
作者:
Zhang, ZL(张志利)
;
Fu, K(付凯)
;
Deng, XG(邓旭光)
;
Zhang, XD(张晓东)
;
Fan, YM(范亚明)
收藏
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浏览/下载:66/0
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提交时间:2015/12/31
AlGaN/GaN high electron mobility transistor (HEMT)
standard fluorine ion implantation
normally off
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