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Measurement of the CKM angle using B-+/- DK +/- with D -> KS0(+-),(KsK+K-)-K-0 decays (vol 08, 176, 2018) 其他
2018-01-01
作者:  Aaij, R.;  Adeva, B.;  Adinolfi, M.;  Aidala, C. A.;  Ajaltouni, Z.
收藏  |  浏览/下载：14/0  |  提交时间：2019/12/05
Measurement of the CKM angle using B-+/- DK +/- with D -> KS0(+-),(KsK+K-)-K-0 decays (vol 08, 176, 2018) 其他
2018-01-01
作者:  Aaij, R.;  Adeva, B.;  Adinolfi, M.;  Aidala, C. A.;  Ajaltouni, Z.
收藏  |  浏览/下载：7/0  |  提交时间：2019/12/05
Understanding charge traps for optimizing Si-passivated Ge nMOSFETs 其他
2016-01-01
Ren, P.; Gao, R.; Ji, Z.; Arimura, H.; Zhang, J. F.; Wang, R.; Duan, M.; Zhang, W.; Franco, J.; Sioncke, S.; Cott, D.; Mitard, J.; Witters, L.; Mertens, H.; Kaczer, B.; Mocuta, A.; Collaert, N.; Linten, D.; Huang, R.; Thean, A. V.Y.; Groeseneken, G.
收藏  |  浏览/下载：4/0  |  提交时间：2017/12/03
Validation of subjective and objective evaluation methods for orthodontic treatment outcome 其他
2015-01-01
Song G Y; Jiang R P; Zhang X Y; Liu S Q; Yu X N; Chen Q; Weng X R; Wu W Z; Su H; Ren C; Shan R K; Geng Z; Xu T M
收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2015/11/13
Electrode/oxide interface engineering by inserting single-layer graphene: Application for HfOx-based resistive random access memory 其他
2012-01-01
Chen, Hong-Yu; Tian, He; Gao, Bin; Yu, Shimeng; Liang, Jiale; Kang, Jinfeng; Zhang, Yuegang; Ren, Tian-Ling; Wong, H.-S. Philip
收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2015/11/17
TDDB characteristics of ultra-thin HfN/HfO2 gate stack 其他
2004-01-01
Yang, Hong; Sa, Ning; Tang, Liang; Liu, Xiaoyan; Kang, Jinfeng; Han, Ruqi; Yu, H.Y.; Ren, C.; Li, M.-F.; Chan, D.S.H.; Kwong, D.-L.
收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2015/11/13
Characteristics of sub-1 nm CVD HfO2 gate dielectrics with HfN electrodes for advanced CMOS applications 其他
2004-01-01
Kang, J.F.; Yu, H.Y.; Ren, C.; Wang, X.P.; Li, M.-F.; Chan, D.S.H.; Liu, X.Y.; Han, R.Q.; Wang, Y.Y.; Kwong, D.-L.
收藏  |  浏览/下载：4/0  |  提交时间：2015/11/13
Selected topics on HfO2 gate dielectrics for future ULSI CMOS devices 其他
2004-01-01
Li, M.F.; Yu, H.Y.; Hou, Y.T.; Kang, J.F.; Wang, X.P.; Shen, C.; Ren, C.; Yeo, Y.C.; Zhu, C.X.; Chan, D.S.H.; Chin, Albert; Kwong, D.L.
收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2015/11/13
Thermally Robust High Quality HfN/HfO2 Gate Stack for Advanced CMOS Devices 其他
2003-01-01
Yu, H.Y.; Kang, J.F.; Chen, J.D.; Ren, C.; Hou, Y.T.; Whang, S.J.; Li, M.-F.; Chan, D.S.H.; Bera, K.L.; Tung, C.H.; Du, A.; Kwong, D.-L.
收藏  |  浏览/下载：4/0  |  提交时间：2015/11/13

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