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科研机构
半导体研究所 [4]
内容类型
期刊论文 [3]
会议论文 [1]
发表日期
2003 [4]
学科主题
半导体材料 [4]
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发表日期:2003
学科主题:半导体材料
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Effects and numerical analysis of argon gas flow on the oxygen concentration in Czochralski silicon single crystal growth
会议论文
iumrs/icem 2002 conference, xian, peoples r china, jun 10-14, 2002
Zhang ZC
;
Ren BY
;
Chen YH
;
Yang SY
;
Wang ZG
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浏览/下载:25/0
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提交时间:2010/11/15
Czochralski method
growth from melt
semiconductor silicon
argon gas flow
computer simulation
oxygen content
FURNACE PRESSURE
Strain accommodation of 3C-SiC grown on hydrogen-implanted Si (001) substrate
期刊论文
journal of crystal growth, 2003, 卷号: 257, 期号: 3-4, 页码: 321-325
作者:
Li DB
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浏览/下载:59/0
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提交时间:2010/08/12
substrate
heteroepitaxy
low pressure chemical vapor deposition
semiconducting silicon carbide
COMPLIANT SUBSTRATE
CRITICAL THICKNESS
SILICON
RELAXATION
MECHANISM
DEFECTS
LAYERS
Effect of a low-temperature thin buffer layer on the strain accommodation of In0.25Ga0.75As grown on a GaAs(001) substrate
期刊论文
semiconductor science and technology, 2003, 卷号: 18, 期号: 11, 页码: 955-959
作者:
Xu B
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浏览/下载:73/0
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提交时间:2010/08/12
RELAXATION
SI
HETEROSTRUCTURES
KINETICS
In0.25Ga0.75As growth on low-temperature thin buffer layers formed on GaAs (001) substrate
期刊论文
journal of crystal growth, 2003, 卷号: 247, 期号: 1-2, 页码: 126-130
作者:
Xu B
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浏览/下载:56/0
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提交时间:2010/08/12
dislocation
interfaces
strain
molecular beam epitaxy
semiconductor IIIV materials
MOLECULAR-BEAM EPITAXY
SURFACE-MORPHOLOGY
TECHNOLOGY
GAAS(001)
BEHAVIOR
SI
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