|
已选(0)清除
条数/页： 排序方式：
|
| 一种后栅工艺MOS器件的制备方法 专利
专利号: CN201610166118.0, 申请日期: 2018-11-30, 公开日期: 2016-07-27
作者: 高建峰 ; 白国斌; 殷华湘; 李俊峰; 赵超
  收藏 | 浏览/下载：33/0 | 提交时间：2019/03/26 |
| 一种冗余金属填充区域版图的处理方法及系统 专利
专利号: CN201610053449.3, 申请日期: 2018-11-02, 公开日期: 2016-07-06
作者: 曹鹤; 陈岚; 张贺
收藏 | 浏览/下载：17/0 | 提交时间：2019/03/06 |
| 一种可制造性设计仿真器设计方法及系统 专利
专利号: CN201610052912.2, 申请日期: 2018-08-10, 公开日期: 2016-03-23
作者: 徐勤志; 陈岚
收藏 | 浏览/下载：14/0 | 提交时间：2019/03/06 |
| 一种化学机械抛光后芯片表面形貌评测方法及系统 专利
专利号: CN201410643976.0, 申请日期: 2018-04-06, 公开日期: 2016-06-01
作者: 曹鹤; 陈岚; 马天宇
收藏 | 浏览/下载：7/0 | 提交时间：2019/03/06 |
| 一种锗的化学机械抛光方法 专利
专利号: CN201410345960.1, 申请日期: 2018-04-03, 公开日期: 2016-01-20
作者: 刘金彪; 杨涛; 赵超; 李俊峰; 贺晓彬
收藏 | 浏览/下载：10/0 | 提交时间：2019/03/19 |
| 一种化学机械研磨方法 专利
专利号: CN201410643429.2, 申请日期: 2018-02-02, 公开日期: 2016-05-18
作者: 陈岚; 曹鹤
收藏 | 浏览/下载：7/0 | 提交时间：2019/03/06 |
| 一种对机械剥离石墨烯表面进行原子级清洁处理的方法 专利
专利号: CN201410764087.X, 申请日期: 2017-01-18, 公开日期: 2015-04-08
作者: 彭松昂; 史敬元; 王选芸; 张大勇; 王少青
收藏 | 浏览/下载：5/0 | 提交时间：2018/02/07 |
| 提高化学机械平坦化工艺均匀性的方法 专利
专利号: CN201210112494.3, 申请日期: 2016-09-21, 公开日期: 2013-10-30
作者: 崔虎山; 李俊峰; 侯瑞兵; 赵超; 杨涛
收藏 | 浏览/下载：7/0 | 提交时间：2017/06/30 |
| 一种液晶滤波方法、液晶滤波器和空间滤波系统 专利
专利号: CN201210593957.2, 申请日期: 2016-05-04, 公开日期: 2014-07-09
作者: 孔延梅; 陈大鹏; 焦斌斌
收藏 | 浏览/下载：9/0 | 提交时间：2017/05/26 |
| 半导体器件的制造方法 专利
专利号: CN201110215069.2, 申请日期: 2016-02-17, 公开日期: 2013-01-30
作者: 陈大鹏; 殷华湘; 徐秋霞; 孟令款
收藏 | 浏览/下载：6/0 | 提交时间：2017/06/30 |
