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科研机构
半导体研究所 [9]
内容类型
期刊论文 [8]
会议论文 [1]
发表日期
2005 [1]
2003 [1]
2002 [1]
2001 [2]
1998 [1]
1997 [2]
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学科主题
半导体材料 [9]
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学科主题:半导体材料
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Optical properties of phase-separated GaN1-xPx alloys grown by light-radiation heating metal-organic chemical vapour deposition
期刊论文
chinese physics letters, 2005, 卷号: 22, 期号: 8, 页码: 2081-2083
Lu LW
;
Chen TJ
;
Shen B
;
Wang JN
;
Ge WK
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浏览/下载:65/32
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提交时间:2010/03/17
MOLECULAR-BEAM EPITAXY
The effects of rapid thermal annealing on the optical properties of Zn1-xMnxSe epilayer grown by MOCVD on GaAs substrate
期刊论文
journal of crystal growth, 2003, 卷号: 249, 期号: 3-4, 页码: 538-543
作者:
Zhang JY
;
Jiang DS
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浏览/下载:81/0
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提交时间:2010/08/12
photoluminescence
metalorganic chemical vapor deposition
epilayer
semiconducting II-VI materials
MOLECULAR-BEAM EPITAXY
GAP
Study of GaN thin films grown on intermediate-temperature buffer layers by molecular beam epitaxy
期刊论文
journal of crystal growth, 2002, 卷号: 234, 期号: 1, 页码: 99-104
Lu LW
;
Fong WK
;
Zhu CF
;
Leung BH
;
Surya C
;
Wang J
;
Ge WK
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浏览/下载:100/14
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提交时间:2010/08/12
characterization
molecular beam epitaxy
semiconducting materials
STRAIN
Effects of annealing time and Si cap layer thickness on the Si/SiGe/Si heterostructures thermal stability
期刊论文
journal of crystal growth, 2001, 卷号: 227, 期号: 0, 页码: 766-769
Gao F
;
Lin YX
;
Huang DD
;
Li JP
;
Sun DZ
;
Kong MY
;
Zeng YP
;
Li JM
;
Lin LY
收藏
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浏览/下载:97/14
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提交时间:2010/08/12
annealing
molecular beam epitaxy
germanium silicon alloys
semiconducting materials
STRAIN RELAXATION
Effects of annealing time and Si cap layer thickness on the Si/SiGe/Si heterostructures thermal stability
会议论文
11th international conference on molecular beam epitaxy (mbe-xi), beijing, peoples r china, sep 11-15, 2000
Gao F
;
Lin YX
;
Huang DD
;
Li JP
;
Sun DZ
;
Kong MY
;
Zeng YP
;
Li JM
;
Lin LY
收藏
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浏览/下载:8/0
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提交时间:2010/11/15
annealing
molecular beam epitaxy
germanium silicon alloys
semiconducting materials
STRAIN RELAXATION
Low-temperature growth properties of Si1-xGex by disilane and solid-Ge molecular beam epitaxy
期刊论文
journal of crystal growth, 1998, 卷号: 193, 期号: 4, 页码: 535-540
Liu JP
;
Kong MY
;
Li JP
;
Liu XF
;
Huang DD
;
Sun DZ
收藏
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浏览/下载:33/0
  |  
提交时间:2010/08/12
Si1-xGex alloys
low temperature epitaxy
desorption
adsorption
surface morphology
growth kinetics
HYDROGEN DESORPTION
SI(100)
SI
SURFACTANT
GERMANIUM
MECHANISM
KINETICS
ALLOYS
SI2H6
GAS-SOURCE MBE
Ge composition saturation behavior during low-temperature Si1-xGex growth by disilane and solid Ge molecular beam epitaxy
期刊论文
journal of crystal growth, 1997, 卷号: 181, 期号: 4, 页码: 441-445
Liu JP
;
Liu XF
;
Li JP
;
Sun DZ
;
Kong MY
收藏
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浏览/下载:18/0
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提交时间:2010/11/17
Si1-xGex alloys
low-temperature epitaxy
composition dependence
growth kinetics
GAS-SOURCE MBE
SI2H6
SEGREGATION
DEPENDENCE
KINETICS
FILMS
Gas Source Molecular Beam Epitaxy Growth of Si_(1-x)Ge_x/Si Alloys
期刊论文
rare metals, 1997, 卷号: 16, 期号: 2, 页码: 122
刘学锋
;
李建平
;
孙殿照
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浏览/下载:5/0
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提交时间:2010/11/23
Aggregation and precipitation in high dose as ion implanted Ge0.5Si0.5 alloy
期刊论文
nuclear instruments & methods in physics research section b-beam interactions with materials and atoms, 1996, 卷号: 119, 期号: 4, 页码: 510-514
Fan TW
;
Zou LF
;
Wang ZG
;
Hemment PLF
;
Greaves SJ
;
Watts JF
收藏
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浏览/下载:19/0
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提交时间:2010/11/17
ELECTRICAL-PROPERTIES
SI0.5GE0.5 ALLOY
LAYERS
HETEROSTRUCTURES
SB
SUPERLATTICES
DIFFUSION
REGROWTH
SILICON
SI
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