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浏览/检索结果: 共65条，第1-10条 帮助 限定条件 学科主题：光学薄膜     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 HfO2的纯度对紫外多层膜反射率的影响 期刊论文 Chin. Opt. Lett., 2008, 卷号: 6, 期号: 3, 页码: 222, 224 袁景梅; 齐红基; 赵元安; 范正修; 邵建达 收藏  |  浏览/下载：1135/161  |  提交时间：2009/09/22 光学薄膜  Glow discharge mass spectrum  紫外膜  Ultraviolet multilayer  ZrO2  HfO2  光学性能   三种不同后处理方式对ZrO_2薄膜性能的影响 期刊论文 中国激光, 2008, 卷号: 35, 期号: 10, 页码: 1600, 1604 王聪娟; 晋云霞; 邵建达; 范正修 收藏  |  浏览/下载：1127/124  |  提交时间：2009/09/22 薄膜  Damage thresholds  氧化锆  Electron beam evaporations  抗激光损伤阈值  Pretreatment  退火  Single layers  激光预处理  Treatment methods  离子后处理   基于平板夹具的电子束蒸发沉积薄膜中的挖坑效应分析 期刊论文 真空, 2008, 卷号: 45, 期号: 6, 页码: 12, 16 夏志林; 赵元安; 黄才华; 薛亦渝; 杨芳芳; 郭培涛 收藏  |  浏览/下载：1127/184  |  提交时间：2009/09/22 SiO_2薄膜折射率的准确拟合分析 期刊论文 中国激光, 2008, 卷号: 35, 期号: 5, 页码: 760, 763 王胭脂; 张伟丽; 范正修; 黄建兵; 晋云霞; 姚建可; 邵建达 收藏  |  浏览/下载：1271/128  |  提交时间：2009/09/22 词薄膜  SiO2折射率  包络法  准确拟合  Accurately fitting  Envelop method  Optical-  Refractive index of SiO2  Thin films   电子束蒸发镀膜速率控制 期刊论文 中国激光, 2008, 卷号: 35, 期号: 10, 页码: 1591, 1594 王善成; 方明; 易葵; 邵淑英; 范正修 收藏  |  浏览/下载：877/189  |  提交时间：2009/09/22 薄膜  薄膜工艺  速率控制  比列积分微分控制  Basic principles  Closed-loop controls  Control parameters  Evaporation characteristics  Film process  Improved processes  Proportion integral differential  Rate control  Rate controls   355nm增透膜的设计、制备与性能 期刊论文 中国激光, 2008, 卷号: 35, 期号: 12, 页码: 2026, 2030 余华; 崔云; 申雁鸣; 齐红基; 易葵; 邵建达; 范正修 收藏  |  浏览/下载：1091/182  |  提交时间：2009/09/22 薄膜  增透膜  热舟蒸发  真空退火  激光损伤阈值  355 nm lasers  Damage morphologies  Electric-field  In vacuums  Laser damage resistances  Laser induce damage threshold  Masking technologies  Spectrum stabilities  Substrate interfaces  Surface conditions  Thermal boat evaporation  Vacuum annealing   单脉冲飞秒脉冲激光对单层和高反光学薄膜的损伤 期刊论文 光子学报, 2008, 卷号: 37, 期号: 3, 页码: 417, 420 袁磊; 赵元安; 贺洪波; 范正修; 邵建达 收藏  |  浏览/下载：690/133  |  提交时间：2009/09/22 飞秒激光  Electron beam evaporation  激光诱导损伤  Femtosecond pulse  单层膜  High reflective coating  高反膜  Laser induced damage  离化作用  Single layer   4H-SiC基底Al_2O_3/SiO_2双层减反射膜的设计和制备 期刊论文 光学学报, 2008, 卷号: 28, 期号: 12, 页码: 2431, 2435 黄火林; 张峰; 吴正云; 齐红基; 姚建可; 范正修; 邵建达 收藏  |  浏览/下载：1114/176  |  提交时间：2009/09/22 薄膜光学  Al2O3/SiO2双层减反射膜  电子束蒸发  4H-SiC基底  折射率  4H-SiC substrate  Al2O3/SiO2 double-layer anti-reflection coatings  Deposited layers  Electron beam evaporation  Layer coatings  Layer thicknesses  Physical thicknesses  Reference wavelengths  Reflection spectrums  Scanning electron microscopes  SEM images  Single layers  Thin film optics  UV optoelectronic devices  Wavelength selectivities   沉积温度对氧化钇稳定氧化锆薄膜残余应力的影响 期刊论文 光学学报, 2008, 卷号: 28, 期号: 5, 页码: 1007, 1011 肖祁陵; 贺洪波; 邵淑英; 邵建达; 范正修 收藏  |  浏览/下载：700/128  |  提交时间：2009/09/22 薄膜光学  残余应力  氧化钇稳定氧化锆薄膜  沉积温度  Deposition temperature  Residual stress  Thin film optics  Yttria-stabilized zirconia thin films  Yttrial-stabilized zirconia films   基底温度对直流磁控溅射ITO透明导电薄膜性能的影响 期刊论文 中国激光, 2008, 卷号: 35, 期号: 12, 页码: 2031, 2035 曾维强; 姚建可; 贺洪波; 邵建达 收藏  |  浏览/下载：1224/160  |  提交时间：2009/09/22 薄膜  ITO透明导电膜  基底温度  直流磁控溅射  Crystal grain sizes  Direct current magnetron sputtering  Direct currents  Glass substrates  Indium oxides  Interplanar spacings  ITO transparent conductive thin films  Mass fractions  Substrate temperature  X-ray diffractions