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| 一种后栅工艺MOS器件的制备方法 专利 专利号: CN201610166118.0, 申请日期: 2018-11-30, 公开日期: 2016-07-27 作者: 高建峰; 白国斌; 殷华湘; 李俊峰; 赵超 收藏  |  浏览/下载:33/0  |  提交时间:2019/03/26 |
| 一种堆叠式围栅纳米线器件假栅电极制备方法 专利 专利号: CN201610033601.1, 申请日期: 2018-11-27, 公开日期: 2016-06-15 作者: 孟令款; 徐秋霞; 闫江 收藏  |  浏览/下载:18/0  |  提交时间:2019/03/26 |
| 减小顶栅石墨烯场效应晶体管欧姆接触的方法 专利 专利号: CN201610266868.5, 申请日期: 2018-11-20, 公开日期: 2016-07-20 作者: 史敬元; 彭松昂; 金智; 张大勇 收藏  |  浏览/下载:14/0  |  提交时间:2019/03/07 |
| 一种石墨烯场效应晶体管及其制造方法 专利 专利号: CN201610306272.3, 申请日期: 2018-11-09, 公开日期: 2016-07-20 作者: 彭松昂; 金智; 王少青; 毛达诚; 史敬元 收藏  |  浏览/下载:38/0  |  提交时间:2019/03/07 |
| 赛贝克系数测量结构、测量结构制备方法及测量方法 专利 专利号: CN201510226906.X, 申请日期: 2018-11-06, 公开日期: 2015-09-09 作者: 卢年端; 李泠; 刘明; 高南; 徐光伟 收藏  |  浏览/下载:13/0  |  提交时间:2019/03/06 |
| 一种平面型IGBT结构的制备方法 专利 专利号: CN201310085579.1, 申请日期: 2018-11-06, 公开日期: 2014-06-04 作者: 卢烁今; 赵佳; 朱阳军; 陆江; 田晓丽 收藏  |  浏览/下载:26/0  |  提交时间:2019/03/07 |
| NAND存储串及其制造方法、3D NAND存储器 专利 专利号: CN201410540148.4, 申请日期: 2018-07-31, 公开日期: 2016-04-20 作者: 李俊锋; 朱慧珑; 赵恒亮 收藏  |  浏览/下载:5/0  |  提交时间:2019/03/21 |
| 一种半导体结构及其制造方法 专利 专利号: CN201310282319.3, 申请日期: 2018-07-13, 公开日期: 2015-01-14 作者: 刘新宇; 金智; 钟汇才; 朱慧珑; 梁擎擎 收藏  |  浏览/下载:18/0  |  提交时间:2019/03/21 |
| 一种逆导型绝缘栅双极晶体管结构及其制备方法 专利 专利号: CN201210524692.0, 申请日期: 2018-06-01, 公开日期: 2014-06-11 作者: 胡爱斌; 朱阳军; 田晓丽; 张文亮 收藏  |  浏览/下载:12/0  |  提交时间:2019/03/07 |
| 通过自对准工艺制备石墨烯顶栅场效应晶体管器件的方法 专利 专利号: CN201410535650.6, 申请日期: 2018-05-22, 公开日期: 2015-01-28 作者: 张大勇; 麻芃; 金智; 史敬元; 王少青 收藏  |  浏览/下载:22/0  |  提交时间:2019/03/07 |