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浏览/检索结果: 共7条，第1-7条 帮助 限定条件 发表日期：2010     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Freestanding palladium nanosheets with plasmonic and catalytic properties 期刊论文 2010 Huang, Xiaoqing; Tang, Shaoheng; Mu, Xiaoliang; Dai, Yan; Chen, Guangxu; Zhou, Zhiyou; 周志有; Ruan, Fangxiong; Yang, Zhilin; Zheng, Nanfeng; 郑南峰 收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2012/03/27 Preparation and optical performance of freestanding gan thick films 期刊论文 Rare metal materials and engineering, 2010, 卷号: 39, 期号: 12, 页码: 2169-2172 作者:  Hu Qiang;  Wei Tongbo;  Duan Ruifei;  Yang Jiankun;  Huo Ziqiang 收藏  |  浏览/下载：29/0  |  提交时间：2019/05/12 Gan  Hvpe  Freestanding thick films  Stress release  Photoluminescence   Preparation and Optical Performance of Freestanding GaN Thick Films 期刊论文 rare metal materials and engineering, 2010, 卷号: 39, 期号: 12, 页码: 2169-2172 作者:  Wei TB;  Yang JK;  Duan RF 收藏  |  浏览/下载：58/10  |  提交时间：2011/07/05 GaN  HVPE  freestanding thick films  stress release  photoluminescence  VAPOR-PHASE EPITAXY  GROWTH  PRESSURE  HVPE   Preparation and Characteristics of GaN Films on Freestanding CVD Thick 期刊论文 Chinese Physics Letters, 2010, 卷号: 27, 页码: 181021-181024 作者:  Bai YZ(白亦真);  Qin FW(秦福文);  Bian JM(边继明);  Zhao JJ(赵纪军) 收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2019/12/24 Deposition of GaN Films on Freestanding CVD Thick Diamond Films 期刊论文 Materials Science Forum, 2010, 卷号: 654, 页码: 1740-1743 作者:  Bai YZ(白亦真);  Qin FW(秦福文);  Bian JM(边继明) 收藏  |  浏览/下载：8/0  |  提交时间：2019/12/24 Preparation and Characteristics of GaN Films on Freestanding CVD Thick Diamond Films 期刊论文 CHINESE PHYSICS LETTERS, 2010, 卷号: 27 作者:  Zhang Dong;  Bai Yi-Zhen;  Qin Fu-Wen;  Bian Ji-Ming;  Jia Fu-Chao 收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2019/12/24 Deposition of GaN Films on Freestanding CVD Thick Diamond Films 会议论文 7th Pacific Rim International Conference on Advanced Materials and Processing, Cairns, AUSTRALIA, 2010-08-02 作者:  Zhang, Dong;  Bai, Yizhen;  Qin, Fuwen;  Bian, Jiming 收藏  |  浏览/下载：6/0  |  提交时间：2019/12/24 GaN films  diamond films  nitriding time  SAW devices  ECR-PEMOCVD