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科研机构
兰州大学 [1]
内容类型
期刊论文 [1]
发表日期
1996 [1]
学科主题
714.3 Wave... [1]
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发表日期:1996
学科主题:714.3 Waveguides - 741.1 Light/Optics
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制备参数和退火对a-C:H膜光学性质的影响
期刊论文
半导体学报/Pan Tao Ti Hsueh Pao/Chinese Journal of Semiconductors, 1996, 卷号: 17, 期号: 11, 页码: 6
作者:
陈光华
;
卢阳华
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提交时间:2015/04/27
光学带隙:5586
光学性质:4844
制备参数:4040
吸收系数:3909
衬底温度:2162
射频偏压:1843
退火温度:1403
反应室:1284
氢含量:1079
H膜:918
Preparation parameters
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