Analysis of the contact resistance in amorphous InGaZnO thin film transistors | |
Wang W(王伟); Li L(李泠); Lu CY(陆丛研); Xu GW(徐光伟); Ji ZY(姬濯宇); Liu M(刘明); Liu Y(刘宇); Lv HB(吕杭炳) | |
刊名 | Applied Physics Letters |
2015-08-14 | |
语种 | 英语 |
公开日期 | 2016-05-24 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/14911] |
专题 | 微电子研究所_微电子器件与集成技术重点实验室 |
作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | Wang W,Li L,Lu CY,et al. Analysis of the contact resistance in amorphous InGaZnO thin film transistors[J]. Applied Physics Letters,2015. |
APA | Wang W.,Li L.,Lu CY.,Xu GW.,Ji ZY.,...&Lv HB.(2015).Analysis of the contact resistance in amorphous InGaZnO thin film transistors.Applied Physics Letters. |
MLA | Wang W,et al."Analysis of the contact resistance in amorphous InGaZnO thin film transistors".Applied Physics Letters (2015). |
个性服务 |
查看访问统计 |
相关权益政策 |
暂无数据 |
收藏/分享 |
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。
修改评论