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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 限定条件 学科主题：半导体物理     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序题名升序题名降序作者升序作者降序 A comparison between AlN films grown by MOCVD using dimethylethylamine alane and trimethylaluminium as the aluminium precursors 期刊论文 chinese physics letters, 2007, 卷号: 24, 期号: 2, 页码: 516-518 Hu, WG (Hu Wei-Guo); Liu, XL (Liu Xiang-Lin); Zhang, PF (Zhang Pan-Feng); Zhao, FA (Zhao Feng-Ai); Jiao, CM (Jiao Chun-Mei); Wei, HY (Wei Hong-Yuan); Zhang, RQ (Zhang Ri-Qing); Wu, JJ (Wu Jie-Jun); Cong, GW (Cong Guang-Wei); Pan, Y (Pan Yi) 收藏  |  浏览/下载：40/0  |  提交时间：2010/03/29 CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION