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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 限定条件 学科主题：Applied     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Effect of hydrogen peroxide concentration on surface micro- roughness of silicon wafer after final polishing 期刊论文 MICROELECTRONIC ENGINEERING, 2011, 卷号: 88, 期号: 6, 页码: 1010-1015 Wang,HB; Song,ZT; Liu,WL; Kong,H 收藏  |  浏览/下载：21/0  |  提交时间：2012/04/10 ELSEVIER SCIENCE BV