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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 限定条件 专题：北京大学    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序题名升序题名降序作者升序作者降序 Three-dimensional discharge simulation of inductively coupled plasma (ICP) etching reactor 期刊论文 中国科学e辑 技术科学, 2008 An YiRan; Lu YiJia; Li DongSan; Chen YaoSong 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2015/11/12 inductively coupled plasma  electron density  electron temperature  power deposition  DENSITY  UNIFORMITY  TOOLS  MODEL