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内容类型
期刊论文 [67]
会议论文 [21]
学位论文 [13]
专利 [3]
其他 [1]
发表日期
2012 [105]
学科主题
半导体材料 [6]
光电子学 [2]
红外基础研究 [2]
Chemistry;... [1]
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发表日期:2012
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Effect of In incorporation parameters on the electroluminescence of blue-violet InGaN/GaN multiple quantum wells grown by metalorganic chemical vapor deposition
期刊论文
Journal of Alloys and Compounds, 2012, 卷号: 540, 期号: 11, 页码: 46-48
作者:
Hui Yang (杨辉)
;
S.M. Zhang(张书明)
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浏览/下载:10/0
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提交时间:2013/01/22
Nitride materials
Crystal growth
X-ray diffraction
MOCVD外延生长AlGaAs组份的在线监测
期刊论文
发光学报, 2012, 期号: 09, 页码: 985-990
王鹏程
;
徐华伟
;
张金龙
;
宁永强
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浏览/下载:7/0
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提交时间:2013/03/11
Ⅲ-Ⅴ族半导体化合物
外延生长
金属有机化合物汽相淀积
反射各向异性谱
Al组分AlGaN材料优化生长与组分研究
期刊论文
光电子激光, 2012, 卷号: 23, 期号: 9
作者:
范亚明
;
张宝顺
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浏览/下载:42/0
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提交时间:2013/01/22
AlGaN
金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)
相分离
表面形貌
Al组分
Effects of high-energy electron irradiation on blue luminescence of unintentionally doped GaN heterostructure
期刊论文
NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2012, 卷号: 286, 页码: 138-140
作者:
Fu, X.
;
Ma, T.
;
Zhang, C.
;
Zhang, L.
;
Zhang, Z.
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浏览/下载:9/0
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提交时间:2018/07/05
Gan
Electron Irradiation
Blue Luminescence
Effects of high-energy electron irradiation on blue luminescence of unintentionally doped GaN heterostructure
会议论文
作者:
Fu, X.
;
Ma, T.
;
Zhang, C.
;
Zhang, L.
;
Zhang, Z.
收藏
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浏览/下载:9/0
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提交时间:2018/08/20
GaN
Electron irradiation
Blue luminescence
Effects of high-energy electron irradiation on blue luminescence of unintentionally doped GaN heterostructure
会议论文
作者:
Fu, X.
;
Ma, T.
;
Zhang, C.
;
Zhang, L.
;
Zhang, Z.
收藏
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浏览/下载:15/0
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提交时间:2018/08/20
GaN
Electron irradiation
Blue luminescence
背光PIN光电二极管
专利
专利号: CN202405297U, 申请日期: 2012-08-29, 公开日期: 2012-08-29
作者:
秦龙
;
唐琦
收藏
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浏览/下载:7/0
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提交时间:2019/12/26
Strain relaxation and optical properties of etched In0.19Ga0.81N nanorod arrays on the GaN template
期刊论文
Chin. Phys. B, 2012, 卷号: 21, 期号: 8
作者:
Wang Jian-Feng (王建峰)
;
Yang Hui (杨辉)
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浏览/下载:63/0
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提交时间:2013/01/16
ELECTRONIC STRUCTURE
MAGNETIC
OPTICAL PROPERTIES
生长压力对GaN材料光学与电学性能的影响
期刊论文
半导体光电, 2012, 卷号: 33, 期号: 3
作者:
范亚明
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浏览/下载:15/0
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提交时间:2013/01/22
GaN
MOCVD
生长压力
光致发光
载流子浓度
载流子迁移率
一种垂直喷淋式MOCVD反应器
专利
专利类型: 发明, 专利号: CN 101824606B, 申请日期: 2012-06-06, 公开日期: 2012-09-25
作者:
张永红
;
杨辉
;
王怀兵
;
张宝顺
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浏览/下载:17/0
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提交时间:2012/09/25
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