QQ客服 官方微博 反馈留言

浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 限定条件 专题：北京大学    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Hysteresis-free HfO2 film grown by atomic layer deposition at low temperature 期刊论文 固体薄膜, 2011 Shen, J.; Zhang, C. Y.; Xu, T. T.; Jiang, A. N.; Zhang, Z. Y.; Wang, S.; Chen, Q. 收藏  |  浏览/下载：6/0  |  提交时间：2015/11/12 Atomic layer deposition  HfO2  Characterization  FIELD-EFFECT TRANSISTORS  HIGH-KAPPA DIELECTRICS  THIN-FILMS  SPECTROSCOPIC ELLIPSOMETRY  NANOTUBE TRANSISTORS  HAFNIUM  METAL  STABILITY  OXIDES  WATER