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制造Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体的方法、二极管及其制作方法 专利
专利号: CN101311380B, 申请日期: 2011-10-05, 公开日期: 2011-10-05
作者:  上野昌纪;  斋藤雄
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GaN薄膜的椭偏光谱研究 期刊论文
2011
余养菁; 张斌恩; 李孔翌; 姜伟; 李书平; 康俊勇
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蓝宝石图形衬底上GaN低温缓冲层的研究 期刊论文
半导体技术, 2011, 卷号: 36, 期号: 10, 页码: 760-764
作者:  吴猛
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MOCVD法制备锌锡氧薄膜及其特性研究 学位论文
2011
作者:  张雪
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镓铟氧化物薄膜和氧化锡薄膜的制备与性质研究 学位论文
2011
作者:  孔令沂
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外延GaN衬底上ZnO:Ga薄膜的制备及特性研究 学位论文
2011
作者:  喻巧群
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Al_(1-x)InxN的制备及其性质研究 学位论文
2011
作者:  谭永亮
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金属有机化学气相沉积法制备ZnO和ZnO∶Ni薄膜及其特性分析 期刊论文
高等学校化学学报, 2011, 卷号: 32, 页码: 2717-2720
作者:  王辉;  王瑾;  赵洋;  赵龙;  赵旺
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金属有机化学气相沉积选控制备负载型催化新材料 会议论文
第十三届全国青年催化学术会议, 昆明, 2011-07-01
作者:  梁长海
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