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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 限定条件 专题：兰州化学物理研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Study on the anti-reflection and structure evolution of hydrogenated amorphous carbon grown by plasma chemical vapor deposition 期刊论文 Surface and interface analysis, 2014, 卷号: 46, 期号: 8, 页码: 530-534 作者:  Shi J(师晶);  Geng ZR(耿中荣);  Zhang JY(张俊彦);  Wang CB(王成兵) 收藏  |  浏览/下载：21/0  |  提交时间：2014/10/17 hydrogenated amorphous carbon  direct current plasma-enhanced chemical vapor deposition  anti-reflection property  raman spectroscopy  X-ray photoelectron spectroscopy