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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 限定条件 专题：高能物理研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Deposition of dense and smooth Ti films using ECR plasma-assisted magnetron sputtering 期刊论文 SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2009, 卷号: 203, 期号: 22, 页码: 3356-3360 作者:  Zhang, L;  Shi, LQ;  He, ZJ;  Zhang, B;  Lu, YF 收藏  |  浏览/下载：19/0  |  提交时间：2016/06/29 Ti thin film  Magnetron sputtering  ECR plasma