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科研机构
兰州大学 [1]
内容类型
期刊论文 [1]
发表日期
2006 [1]
学科主题
931.1 Mech... [1]
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硅-硅键合界面氧化层模型与杂质分布的模拟
期刊论文
固体电子学研究与进展/Guti Dianzixue Yanjiu Yu Jinzhan/Research and Progress of Solid State Electronics, 2006, 卷号: 26, 期号: 1, 页码: 134-138
作者:
陈新安
;
黄庆安
;
刘肃
;
李伟华
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提交时间:2015/04/27
硅-硅直接键合
本征氧化物
界面氧化层模型
杂质分布
Diffusion coefficient
Impurity distribution
Impurity segregation coefficient
Interfacial layer
Interfacial oxide
Microelectromechanical system
Model of interfacial oxide
Native oxide
Silicon direct bonding
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