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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 限定条件 发表日期：2018    专题：过程工程研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Low-temperature chemical vapor deposition (CVD) of metallic titanium film from a novel precursor 期刊论文 SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2018, 卷号: 353, 页码: 18-24 作者:  Guo, Junjie;  Yang, Yafeng;  Zhu, Qingshan;  Fan, Chuanlin;  Lv, Pengpeng 收藏  |  浏览/下载：37/0  |  提交时间：2018/12/04 Cvd  Metallic Ti Film  Ticl2  Sublimation  Corrosion Resistance  Metallurgical Bonding