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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 限定条件 发表日期：2001     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Defect formation and annealing behavior of Si implanted by high-energy 166Er ions 期刊论文 2001, 卷号: 174, 期号: 1-2, 页码: 137-142 作者:  Li, Yuguo[1,2];  Tan, Chunyu[2];  Xue, Chengshan[1];  Zhang, Jingping[1];  Xu, Honglei[2] 收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2019/12/31