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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 限定条件 发表日期：1995     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Investigation on resist development rate model for synchrotron radiation X-ray lithography 期刊论文 Chinese Science Bulletin, 1995, 期号: 10, 页码: 861-864 作者:  Xie CQ(谢常青);  Chen MZ(陈梦真);  Wang YL(王玉玲);  Sun BY(孙宝银);  Zhou SH(周生辉) 收藏  |  浏览/下载：8/0  |  提交时间：2015/12/25 synchrotron radiation X-ray lithography  resist development rate model  Marquardt method.