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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Thermal Atomic Layer Deposition of Device-Quality SiO2 Thin Films under 100 °c Using an Aminodisilane Precursor 期刊论文 Chemistry of Materials, 2019, 卷号: 31, 期号: 15, 页码: 5502-5508 作者:  Kim, Dae Hyun;  Lee, Han Jin;  Jeong, Heonjong;  Shong, Bonggeun;  Kim, Woo-Hee 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2019/12/11