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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Remote plasma-enhanced atomic layer deposition of metallic TiN films with low work function and high uniformity 期刊论文 JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A, 2018, 卷号: 36 作者:  Zhu, Yafeng[1];  Li, Fangsen[2];  Rong Huang[3];  Tong Liu[4];  Zhao, Yanfei[5] 收藏  |  浏览/下载：19/0  |  提交时间：2019/04/22