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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Electrical characteristics of MOS capacitors with HfTiON as gate dielectric 期刊论文 Journal of Wuhan University of Technology, 2009, 卷号: Vol.24 No.1, 页码: 57-60 作者:  Chen, Weibing;  Xu, Jingping;  Lai, Puito;  Li, Yanping;  Xu, Shengguo 收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2020/01/13 high-k gate dielectric  HfTiON  co-reactive sputter  gate-leakage current