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半导体研究所 [1]
内容类型
期刊论文 [4]
学位论文 [1]
发表日期
2016 [1]
2003 [4]
学科主题
半导体材料 [1]
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纳秒脉冲激光与薄膜相互作用瞬态过程分析及表面功能结构制备
学位论文
2016, 2016
亓东锋
收藏
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浏览/下载:8/0
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提交时间:2017/06/20
纳秒脉冲激光
时间分辨技术
原位泵浦-探测技术
金属柔性透明电极
表面周期性结构
Si基半导体材料
Nanosecond pulse laser
Time-resolved image technology
In situ pump-probing
Flexible transparence conductive electrodes
Surface periodic structures
Si-based semi-conductive materials
Annealing and activation of silicon implanted in semi-insulating InP substrates
期刊论文
MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING, 2003, 卷号: 6, 期号: 4, 页码: 215-218
作者:
Dong, HW
;
Zhao, YW
;
Li, JM
收藏
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提交时间:2021/02/02
semi-insulating InP
ion implantation
silicon
annealing
activation
Annealing and activation of silicon implanted in semi-insulating InP substrates
期刊论文
MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING, 2003, 卷号: 6, 期号: 4, 页码: 215-218
作者:
Dong, HW
;
Zhao, YW
;
Li, JM
收藏
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提交时间:2021/02/02
semi-insulating InP
ion implantation
silicon
annealing
activation
Annealing and activation of silicon implanted in semi-insulating InP substrates
期刊论文
MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING, 2003, 卷号: 6, 期号: 4, 页码: 215
Dong, HW
;
Zhao, YW
;
Li, JM
收藏
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浏览/下载:18/0
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提交时间:2013/09/17
SI+-IMPLANTATION
PHOSPHIDE VAPOR
UNDOPED INP
FE
WAFERS
UNIFORMITY
PRESSURE
Annealing and activation of silicon implanted in semi-insulating InP substrates
期刊论文
materials science in semiconductor processing, 2003, 卷号: 6, 期号: 4, 页码: 215-218
Dong HW
;
Zhao YW
;
Li JM
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浏览/下载:47/0
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提交时间:2010/08/12
semi-insulating InP
ion implantation
silicon
annealing
activation
SI+-IMPLANTATION
PHOSPHIDE VAPOR
UNDOPED INP
FE
WAFERS
UNIFORMITY
PRESSURE
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