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全球光刻机产业发展态势分析2019 研究报告
2019
作者:  郑玉荣;  王艳妮;  白光祖;  吴新年;  权学峰
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用于改变多个辐射束的性质的组件、光刻仪器、改变多个辐射束的性质的方法以及器件制造方法 专利
专利号: CN104272192A, 申请日期: 2015-01-07, 公开日期: 2015-01-07
作者:  H·玛尔德;  P·德加格
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极紫外光刻投影物镜波像差检测技术研究 会议论文
作者:  唐锋;  王向朝;  郭福东;  冯鹏;  张国先
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光刻设备 专利
专利号: CN102141740A, 申请日期: 2011-08-03, 公开日期: 2011-08-03
作者:  L·范道仁;  J·H·W·雅各布斯;  W·A·琼格尔
收藏  |  浏览/下载：7/0  |  提交时间：2019/12/31
激光投影系统中的均匀照明研究 学位论文
博士, 光电技术研究所: 中国科学院光电技术研究所, 2009
廖志杰
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基于双线空间像线宽不对称度的彗差测量技术 期刊论文
光学学报, 2006, 卷号: 26, 期号: 5, 页码: 673, 678
王帆; 王向朝; 马明英; 张冬青; 施伟杰
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ASML公司光学光刻技术最新进展 期刊论文
微细加工技术, 2002, 卷号: 20, 期号: 3, 页码: 8--11
张强; 胡松; 姚汉民
收藏  |  浏览/下载：19/0  |  提交时间：2014/12/09

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